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龙图腾网获悉巨玻固能(苏州)薄膜材料有限公司申请的专利一种氟化钇钡光学薄膜及其制备方法、中远红外光学结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120138566B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510631147.9，技术领域涉及：C23C14/30；该发明授权一种氟化钇钡光学薄膜及其制备方法、中远红外光学结构是由徐川;王乃成;王胜利设计研发完成，并于2025-05-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种氟化钇钡光学薄膜及其制备方法、中远红外光学结构在说明书摘要公布了：本发明提供了一种氟化钇钡光学薄膜及其制备方法、中远红外光学结构。氟化钇钡光学薄膜的制备方法包括如下步骤：提供光学基底和氟化钇钡复合物，所述氟化钇钡复合物为将氟化钇和氟化钡高温固相反应后经淬冷处理得到的具有亚稳态晶相结构的复合材料，且氟化钇钡复合物的晶粒尺寸为亚微米级，亚稳态晶相结构为具有Fm‑3m空间群的立方相和或具有晶格畸变的P4nmm空间群的四方相；将所述光学基底加热至150℃‑200℃；利用电子枪蒸发法，以所述氟化钇钡复合物为蒸发源，在光学基底上沉积形成氟化钇钡光学薄膜。本发明的氟化钇钡光学薄膜在单层膜厚达到2μm‑6μm条件下，仍能保持致密、连续、无微裂纹分布的结构形貌，具备非常好的光学透明性、热稳定性和机械完整性。

本发明授权一种氟化钇钡光学薄膜及其制备方法、中远红外光学结构在权利要求书中公布了：1.一种氟化钇钡光学薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 提供光学基底和氟化钇钡复合物，所述氟化钇钡复合物为将氟化钇和氟化钡高温固相反应后经淬冷处理得到的具有亚稳态晶相结构的复合材料，且所述氟化钇钡复合物的晶粒尺寸为亚微米级，所述亚稳态晶相结构为具有Fm-3m空间群的立方相和或具有晶格畸变的P4mm空间群的四方相； 将所述光学基底加热至150℃-200℃； 利用电子枪蒸发法，以所述氟化钇钡复合物为蒸发源，在所述光学基底上沉积形成氟化钇钡光学薄膜； 所述氟化钇钡复合物的制备方法包括如下步骤： 将氟化钇和氟化钡按照质量比为6:4-4:6的比例混合，在富含氟离子的气氛和惰性气体的保护条件下，在700℃-900℃进行高温固相反应，得到亚熔融复合反应体； 采用快速淬冷工艺，在200℃s-600℃s的冷却速率下将所述亚熔融复合反应体凝固为氟化钇钡熔块； 对所述氟化钇钡熔块进行破碎、清洗和干燥处理，得到所述氟化钇钡复合物； 所述利用电子枪蒸发法，以所述氟化钇钡复合物为蒸发源，在所述光学基底上沉积形成氟化钇钡光学薄膜，包括如下步骤： 在1150℃-1250℃温度范围内，以0.1nms-0.3nms的蒸发速率并通过电子束全表面扫描方式对所述氟化钇钡复合物进行蒸发； 再在1260℃-1350℃温度范围内，以0.5nms-1.5nms的蒸发速率对所述氟化钇钡复合物继续蒸发，从而在所述光学基底上沉积形成氟化钇钡光学薄膜。

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