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龙图腾网获悉中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请的专利一种非局域平面光学波前整形器件、方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120122343B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510619711.5，技术领域涉及：G02B27/09；该发明授权一种非局域平面光学波前整形器件、方法及系统是由陈飞;黄晨;陈毅;孙俊杰;张新;于晶华;张逸文设计研发完成，并于2025-05-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种非局域平面光学波前整形器件、方法及系统在说明书摘要公布了：本发明涉及光学材料技术领域，公开一种非局域平面光学波前整形器件、方法及系统，方法包括：根据泵浦光波段，确定在泵浦光波段下的折射率近零材料；根据折射率近零材料在环境包裹下的相位厚度，调整折射率近零材料的厚度，使折射率近零材料在环境包裹下的光学阻抗与环境介质的光学阻抗匹配，分别得到位于横磁偏振和横电偏振模式下关于折射率近零材料的反射率系数的横磁偏振传递函数和横电偏振传递函数；拟合横磁偏振传递函数和横电偏振传递函数得到折射率近零材料的传递函数。本发明通过设计非局域平面对泵浦光束整形，将基模高斯光束转换至高阶模，从而实现增益介质反转、离子束增加以及控制增益介质受光‑热效应弯曲。

本发明授权一种非局域平面光学波前整形器件、方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种非局域平面光学波前整形方法，其特征在于，使用折射率近零材料，包括： 根据泵浦光波段，确定在所述泵浦光波段下的折射率近零材料； 根据所述折射率近零材料在环境包裹下的相位厚度，调整所述折射率近零材料的厚度，使所述折射率近零材料在环境包裹下的光学阻抗与环境介质的光学阻抗匹配，分别得到位于横磁偏振和横电偏振模式下关于所述折射率近零材料的反射率系数的横磁偏振传递函数和横电偏振传递函数； 所述相位厚度的表达式为： 其中，d表示所述折射率近零材料的厚度，表示波矢常量； n 1 表示所述环境的折射率，n 2 表示所述折射率近零材料的折射率； 表示入射至所述折射率近零材料表面的入射角； 拟合所述横磁偏振传递函数和横电偏振传递函数得到所述折射率近零材料的传递函数，所述折射率近零材料的传递函数与横向波矢的关系曲线满足关系式： （1）； 其中，为无量纲拟合系数， 表示x方向或y方向的横向波矢，n为传递函数拟合系数。

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