ASML荷兰有限公司F·斯塔尔斯获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于推断诸如焦距的处理参数的方法和相关联装置和制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114616523B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080075093.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于推断诸如焦距的处理参数的方法和相关联装置和制造方法是由F·斯塔尔斯设计研发完成，并于2020-09-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于推断诸如焦距的处理参数的方法和相关联装置和制造方法在说明书摘要公布了：公开了一种推断光刻工艺的第一处理参数的值的方法，第一处理参数受制于第二处理参数的耦合相关性。方法包括根据测量数据确定第一度量和第二度量，第一度量和第二度量中的每一者取决于第一处理参数和第二处理参数两者。第一度量表示与第二处理参数相比对第一处理参数更强的相关性，并且第二度量表示与第一处理参数相比对第二处理参数更强的相关性。根据所述第一度量和第二度量推断第一处理参数的值。
本发明授权用于推断诸如焦距的处理参数的方法和相关联装置和制造方法在权利要求书中公布了：1.一种推断光刻工艺的第一处理参数的值和第二处理参数的值的方法，所述方法包括： 根据测量数据确定第一度量和第二度量，所述测量数据与衬底上的使用所述光刻工艺形成的至少一个结构有关，所述第一度量和第二度量中的每一者取决于所述第一处理参数和所述第二处理参数两者，所述第一度量对所述第一处理参数的相关性与所述第一度量对所述第二处理参数的相关性不同，并且所述第二度量对所述第二处理参数的相关性与所述第二度量对所述第一处理参数的相关性不同；以及 根据所述第一度量和第二度量推断所述第一处理参数的所述值和所述第二处理参数的所述值， 其中推断步骤包括参考校准关系，所述校准关系描述了针对所述第一处理参数和所述第二处理参数的不同值的、所述第一度量与所述第二度量的关系。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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