株式会社富士伊藤俊辅获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社富士申请的专利基于等离子体的处理的处理条件决定方法及处理条件决定装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115804249B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080102821.X，技术领域涉及：H05H1/32；该发明授权基于等离子体的处理的处理条件决定方法及处理条件决定装置是由伊藤俊辅;神藤高广设计研发完成，并于2020-08-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于等离子体的处理的处理条件决定方法及处理条件决定装置在说明书摘要公布了：基于等离子体的处理的处理条件决定方法包含如下的工序：照射工序，使头在相对于对象物保持预定的目标距离的状态下以预定的目标速度移动，并且从头向对象物的表面照射等离子体；测定工序，测定执行了照射工序之后的对象物的表面状态；计算工序，反复执行照射工序和测定工序，根据直到对象物的表面状态饱和为止所需的照射工序的执行次数，计算通过执行一次照射工序而使对象物的表面状态饱和所需的必要速度；及决定工序，将必要速度决定为头的处理速度。
本发明授权基于等离子体的处理的处理条件决定方法及处理条件决定装置在权利要求书中公布了：1.一种基于等离子体的处理的处理条件决定方法，包含如下的工序： 照射工序，使头在相对于对象物而保持预定的目标距离的状态下以预定的目标速度移动，并且从所述头向所述对象物的表面照射等离子体； 测定工序，测定执行了所述照射工序之后的所述对象物的表面状态； 计算工序，反复执行所述照射工序和所述测定工序，根据直到所述对象物的表面状态饱和为止所需的所述照射工序的执行次数，计算通过执行一次所述照射工序而使所述对象物的表面状态饱和所需的必要速度；及 决定工序，将所述必要速度决定为所述头的处理速度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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