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龙图腾网获悉东京应化工业株式会社申请的专利正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法、及经图案化的抗蚀剂膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112346302B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010770166.7，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法、及经图案化的抗蚀剂膜是由松本直纯设计研发完成，并于2020-08-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法、及经图案化的抗蚀剂膜在说明书摘要公布了：本发明涉及正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法、及经图案化的抗蚀剂膜。本发明的课题在于提供能够形成截面形状良好的经图案化的抗蚀剂膜且敏感度高的正型感光性树脂组合物、使用该正型感光性树脂组合物的经图案化的抗蚀剂膜的形成方法、和由前述正型感光性树脂组合物形成的经图案化的抗蚀剂膜。解决手段是在正型感光性树脂组合物中包含：Novolac树脂A；含有醌二叠氮基的化合物B；作为分子量1000以下的具有酚式羟基的化合物的敏化剂C；和规定范围内的量的含有酚式羟基的树脂D，其为Novolac树脂A以外的重均分子量超过1000的树脂。

本发明授权正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法、及经图案化的抗蚀剂膜在权利要求书中公布了：1.正型感光性树脂组合物，其包含Novolac树脂A、含有醌二叠氮基的化合物B、敏化剂C、和含有酚式羟基的树脂D， 所述含有醌二叠氮基的化合物B组合包含下式B1表示的化合物、下式B2表示的化合物和下式B3表示的化合物， [化学式1] 式B1中，Rb1各自独立地为碳原子数1以上且5以下的烷基，D各自独立地为氢原子、或1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基，2+m个D中的至少一个为1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基，l及m各自独立地为1或2， [化学式2] 式B2中，D各自独立地为氢原子、或1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基，3个D中的至少一个为1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基， [化学式3] 式B3中，Rb3各自独立地为氢原子、或碳原子数1以上且6以下的烷基，Rb4各自独立地为氢原子、卤素原子、碳原子数1以上且6以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基、或碳原子数3以上且6以下的环烷基，D各自独立地为氢原子、或1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基，4个D中的至少一个为1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基， 所述敏化剂C为分子量1000以下的具有酚式羟基的化合物， 所述含有酚式羟基的树脂D为重均分子量为3000以上且15000以下的羟基苯乙烯的均聚物， 相对于所述Novolac树脂A100质量份而言，所述含有酚式羟基的树脂D的含量为0.5质量份以上且10质量份以下。

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