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应用材料公司T·A·恩古耶获国家专利权

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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利半导体处理系统中的外部基板旋转获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113611594B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110890839.7,技术领域涉及:H01L21/02;该发明授权半导体处理系统中的外部基板旋转是由T·A·恩古耶;A·K·班塞尔;J·C·罗查-阿尔瓦瑞兹设计研发完成,并于2016-04-20向国家知识产权局提交的专利申请。

半导体处理系统中的外部基板旋转在说明书摘要公布了:公开了一种半导体处理系统中的外部基板旋转。本文公开一种用于处理半导体的方法和设备。在一个实施例中,公开了一种用于半导体处理的处理系统。处理腔室包括两个传送腔室、处理腔室和旋转模块。处理腔室耦接至传送腔室。旋转模块定位在传送腔室之间。旋转模块配置成旋转基板。传送腔室配置成在处理腔室与传送腔室之间传送基板。在另一实施例中,本文公开了一种用于在装置上处理基板的方法。

本发明授权半导体处理系统中的外部基板旋转在权利要求书中公布了:1.一种用于处理基板的方法,所述方法包含: 在第一处理腔室中的基板上沉积膜的第一部分; 将所述基板从所述第一处理腔室通过传送腔室传送至旋转模块; 将所述基板定位在基板支撑组件上,所述基板支撑组件设置在所述旋转模块内并且部分地延伸至所述传送腔室中; 旋转所述基板预定的量; 将所述基板传送至第二处理腔室;以及 在所述第二处理腔室中的所述基板上沉积所述膜的第二部分,其中沉积所述第一部分和沉积所述第二部分包括相同类型的沉积工艺。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人应用材料公司,其通讯地址为:美国加利福尼亚州;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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