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龙图腾网获悉杭州睿影科技有限公司申请的专利数据处理方法及图像校正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120182147B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510645800.7，技术领域涉及：G06T5/80；该发明授权数据处理方法及图像校正方法是由邓佳维设计研发完成，并于2025-05-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本数据处理方法及图像校正方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种数据处理方法及图像校正方法，涉及图像处理技术领域，其中数据处理方法包括：获取安检机的散射刻度数据，安检机中用来探测的X射线通过X射线光缝发射，并经由包裹通道照射于探测器，散射刻度数据用于表征安检机中X射线照射于探测器的不同位置的探测像素时，对其他位置的探测像素所产生的散射量；基于散射刻度数据，拟合生成探测器中所有位置的探测像素的目标对应关系，目标对应关系用于表征不同位置的探测像素受到X射线照射于其他位置的探测像素时所产生的散射量占X射线的总光强的比例。本申请通过实验刻度的方式生成目标对应关系，便于更准确地确定不同位置的探测像素所受到的散射量，有助于后续更准确地校正图像。

本发明授权数据处理方法及图像校正方法在权利要求书中公布了：1.一种数据处理方法，其特征在于，所述方法包括： 获取安检机的散射刻度数据；其中，所述安检机中用来探测的X射线通过X射线光缝发射，并经由包裹通道照射于探测器，所述散射刻度数据用于表征所述安检机中X射线照射于所述探测器的不同位置的探测像素时，对其他位置的探测像素所产生的散射量； 基于所述散射刻度数据，拟合生成所述探测器中所有位置的探测像素的目标对应关系；其中，所述目标对应关系用于表征不同位置的探测像素受到X射线照射于其他位置的探测像素时所产生的散射量占X射线的总光强的比例； 其中，所述获取安检机的散射刻度数据的步骤，包括： 在所述安检机的包裹通道上设置有测试板、且通过移动所述测试板使所述探测器接收到不同宽度的X射线的情况下，测量所有位置的探测像素在接收到不同宽度的X射线时的光照强度；其中，所述测试板用于遮挡所述X射线不照射至所述探测器的至少部分位置的探测像素； 将接收到相同宽度X射线时所有位置的探测像素的光照强度划分为一组数据； 对于每一组数据，将所有探测像素的光照强度分别与预设值进行比较，确定沿未被测试板遮挡向被测试板遮挡的方向上光照强度小于所述预设值的第一个探测像素为被所述测试板边缘遮挡的目标探测像素，并将被测试板遮挡的方向上、且与所述目标探测像素间隔M个探测像素外的其他探测像素的光照强度作为对应探测像素的散射量，M为大于或等于1的整数； 将每一组数据中所有位置的探测像素的光照强度或散射量，作为所述安检机的散射刻度数据； 或者， 所述获取安检机的散射刻度数据的步骤，包括： 在所述安检机的包裹通道上设置有测试板、且通过移动所述测试板使所述探测器接收到相同宽度但位于不同位置的X射线的情况下，测量所有位置的探测像素在接收到相同宽度但位于不同位置的X射线时的光照强度；其中，所述测试板用于遮挡所述X射线不照射至所述探测器的至少部分位置的探测像素； 将接收到相同宽度X射线、且位于相同位置时所有位置的探测像素的光照强度划分为一组数据； 对于每一组数据中的每一个探测像素，若所述探测像素的光照强度小于预设值，则将所述光照强度作为所述探测像素的散射量； 将每一组数据中所有位置的探测像素的光照强度或散射量，作为所述安检机的散射刻度数据。

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