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杭州智泓达科技有限公司宋健获国家专利权

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龙图腾网获悉杭州智泓达科技有限公司申请的专利基于金属有机框架的分子印迹纸基微流控芯片制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115060713B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210550787.3,技术领域涉及:G01N21/78;该发明授权基于金属有机框架的分子印迹纸基微流控芯片制备方法是由宋健;干雅婷;周颖;张宜明设计研发完成,并于2022-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。

基于金属有机框架的分子印迹纸基微流控芯片制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了基于金属有机框架的分子印迹纸基微流控芯片制备方法,包括以下步骤:通过种子聚合法二次生长法在滤纸表面构筑类沸石咪唑骨架ZIF‑8;对步骤S1中纸基进行硅烷化和氨基化修饰;对步骤S1中的纸基材料进行包硅和氨基化处理;表面印迹构筑;纸基微流控比色传感器的组装;本发明以上述制备方法作为富集和显色平台,建立可用于牛奶中卡那霉素的快速比色检测试纸条,实现了对卡那霉素选择性富集和显色于一体的快速检测分析,操作简单,灵敏度高;同时利用多种表征手段探究其理化结构,以金属有机框架的高孔隙率、高比表面积以及可调孔径作为优势,结合分子印迹技术,不仅克服了原材料的缺陷,而且进一步提高其选择性。

本发明授权基于金属有机框架的分子印迹纸基微流控芯片制备方法在权利要求书中公布了:1.基于金属有机框架的分子印迹纸基微流控芯片制备方法,其特征在于,具体步骤如下: S1,滤纸改性,利用种子聚合法及二次生长法在纸基表面构筑ZIF-8; S2,对纸基材料进行包硅和氨基化处理; S3,制备硼亲和分子印迹聚合物,称取一定量的4-巯基苯硼酸溶于适量甲醇中,超声混匀后,分别加入碳二亚胺盐酸盐EDC和N-羟基琥珀酰亚胺NHS,充分混匀后于室温下振荡反应4h,得到混合溶液A; S4,表面印迹构筑; S5,纸基微流控比色传感器的组装,纸基微流控芯片上端与吸水垫接触,为吸附富集阶段提供一段时间强劲的毛细管力,下端与NC膜上段接触,保证目标分析物溶液的流动,组装成可直接使用的纸基微流控比色传感器; 所述步骤S1中的滤纸改性还包括将改性后的滤纸放入聚苯乙烯磺酸钠溶液中超声后真空干燥,所述聚苯乙烯磺酸钠溶液的浓度为0.3%-0.5%; 所述步骤S2中的硅烷化和氨基化修饰所需试剂分别为正硅酸乙酯TEOS和3-氨丙基三乙氧基硅氧烷ATPES,其溶剂为无水乙醇溶液。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人杭州智泓达科技有限公司,其通讯地址为:310000 浙江省杭州市临安区锦北街道筑境花园56幢-78号工位;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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