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龙图腾网获悉杭州中为光电技术有限公司;浙江晶盛机电股份有限公司;浙江晶瑞电子材料有限公司申请的专利晶圆抛光研磨自动上下料设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120326523B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510790528.1，技术领域涉及：B24B37/34；该发明授权晶圆抛光研磨自动上下料设备是由谢龙辉;张遵浩;林卫国;张杭军;张广犬;李运伟;张争争;孔腾帅;杨云鹏设计研发完成，并于2025-06-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本晶圆抛光研磨自动上下料设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种晶圆抛光研磨自动上下料设备，其配置有抛光研磨机，抛光研磨机包括若干个游星轮，每个游星轮具有多个研磨抛光工位，该设备包括检测下料运动模块，用于检测多个研磨抛光工位的相对位置关系，生成控制信号；上片缓存模块，包括上片定位缓存台和缓存运动装置，上片定位缓存台包括定位工位和调整平台，缓存运动装置能够将上片定位缓存台中的晶圆移送至定位工位，调整平台用于响应控制信号调整定位工位中的晶圆；上下片运动模块，用于将晶圆移至研磨抛光工位。该设备执行研磨抛光工序前，通过校准调整晶圆相对位置，便于一次将多个晶圆移送研磨抛光工位，提升上下片节奏，使设备具有更高的研磨抛光效率。

本发明授权晶圆抛光研磨自动上下料设备在权利要求书中公布了：1.一种晶圆抛光研磨自动上下料设备，其配置有抛光研磨机（40），所述抛光研磨机用于研磨抛光晶圆，所述抛光研磨机（40）包括若干个游星轮（41），每个所述游星轮（41）具有多个用于固定晶圆的研磨抛光工位（411）， 其特征在于，所述晶圆抛光研磨自动上下料设备包括： 上料抽检模块（10），用于承载晶圆传送盒（11）； 下片缓存模块（60），用于存储研磨抛光后的晶圆； 检测下料运动模块（50），用于检测一个所述游星轮（41）中多个所述研磨抛光工位（411）之间的相对位置关系，并生成表征所述相对位置关系的控制信号； 上片缓存模块（30），包括上片定位缓存台（31）和缓存运动装置（32），所述上片定位缓存台（31）用于承载或存储晶圆，所述上片定位缓存台（31）包括定位工位（311）和调整平台（312），定位工位（311）的数量与所述游星轮（41）中所述研磨抛光工位（411）的数量一致，所述缓存运动装置（32）能够将存储在所述上片定位缓存台（31）中的晶圆移送至相应的所述定位工位（311），所述调整平台（312）用于响应于所述控制信号调整位于所述定位工位（311）中的晶圆，使晶圆的位置分布与所述游星轮（41）中多个所述研磨抛光工位（411）的位置分布一致； 上下片运动模块（20），用于将所述晶圆传送盒（11）中的晶圆移送至所述上片缓存模块（30），所述上下片运动模块（20）还用于抓取所述定位工位（311）中经调整后的全部晶圆，并将晶圆移送至相应的所述研磨抛光工位（411）； 其中，所述检测下料运动模块（50）包括视觉定位组件（522），当所述视觉定位组件（522）移动至第一游星轮的上方时，所述视觉定位组件（522）检测所述第一游星轮中多个所述研磨抛光工位（411）的第一相对位置关系，生成表征所述第一相对位置关系的第一控制信号，所述调整平台（312）能够响应于所述第一控制信号调整位于所述定位工位（311）中的晶圆；当所述调整平台（312）调整晶圆时，所述视觉定位组件（522）移动至第二游星轮的上方，以检测所述第二游星轮中多个所述研磨抛光工位（411）的第二相对位置关系，生成表征所述第二相对位置关系的第二控制信号。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人杭州中为光电技术有限公司;浙江晶盛机电股份有限公司;浙江晶瑞电子材料有限公司，其通讯地址为：311103 浙江省杭州市临平区余杭经济技术开发区顺达路500号1幢201室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。