西北工业大学马炳和获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉西北工业大学申请的专利一种蓝宝石基光学式流体壁面剪应力传感器及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120176895B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510662121.0，技术领域涉及：G01L1/24；该发明授权一种蓝宝石基光学式流体壁面剪应力传感器及制备方法是由马炳和;刘赟哲;陈云健;邓进军;张兴旭设计研发完成，并于2025-05-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种蓝宝石基光学式流体壁面剪应力传感器及制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及微纳制造技术领域，具体涉及一种蓝宝石基光学式流体壁面剪应力传感器及制备方法，该制备方法包括：在支撑基底上制备固定光栅和焊接薄膜；在敏感基底上加工凹腔，在凹腔内加工凹槽以形成与浮动元件形状相同的目标结构，并在目标结构上制备敏感光栅；焊接敏感基底和支撑基底形成键合晶圆；制备弹性梁和浮动元件以形成剪应力传感器。本发明通过高密度多角度飞秒激光刻蚀、磁流变和IBE结合凹腔抛光以及蓝宝石‑铂金属薄膜的激光焊接，实现壁面剪应力传感器的制备，制备过程不需要将整个蓝宝石晶圆置于高温和高压的键合环境中，对焊接前后的工艺选择没有限制，从而降低了整体制备工艺的难度。
本发明授权一种蓝宝石基光学式流体壁面剪应力传感器及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种蓝宝石基光学式流体壁面剪应力传感器，其特征在于，包括： 支撑基底层，其上设置有敏感结构层； 其中，支撑基底层包括：支撑基底，其上表面的中心阵列设置有多个固定光栅，多个固定光栅外部的支撑基底上设置有焊接薄膜；敏感结构层包括：敏感基底，敏感基底连接在支撑基底上，且敏感基底上设置有通槽，通槽内设置有活动结构，活动结构朝向支撑基底的一面上阵列设置有多个敏感光栅，敏感光栅和固定光栅对应设置并形成莫尔条纹；支撑基底和敏感基底均采用蓝宝石材料；焊接薄膜包括设置于支撑基底上的钛金属薄膜，钛金属薄膜上设置有铂金属薄膜； 支撑基底的厚度200-500μm，固定光栅厚度为100-300nm，固定光栅的周期为10-50μm，占空比为30%-70%；敏感基底的厚度30-150μm；通槽的深度为20-50μm；敏感光栅厚度为100-300nm，敏感光栅的周期为10-50μm，占空比为30%-70%；敏感光栅7的周期与固定光栅4有周期差距小于或者等于1μm。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人西北工业大学，其通讯地址为：710072 陕西省西安市碑林区友谊西路127号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由AI智能生成
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号