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龙图腾网获悉南京航空航天大学申请的专利一种高水通量高分子渗透膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120155076B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510647846.2，技术领域涉及：B01D67/00；该发明授权一种高水通量高分子渗透膜及其制备方法和应用是由刘衍朋;李嘉然;陈文发;赵一舟;黄睿鑫设计研发完成，并于2025-05-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高水通量高分子渗透膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：一种高水通量高分子渗透膜及其制备方法和应用，包括如下步骤：将基板旋涂甲基丙烯酸甲酯PMMA或PVA或S1813高分子材料并加热固化形成牺牲层；对所述牺牲层进行等离子体刻蚀处理，使用CF4和CHF3交联表面形成高分子膜；在刻蚀后的表面旋涂PVA形成支撑层并固化；通过溶剂溶解所述牺牲层使复合膜悬浮；将悬浮的复合膜转移至多孔支撑衬底；清洗去除残留溶剂及牺牲层材料；去除所述支撑层以获得独立支撑的渗透多孔高分子膜。本发明的制备方法所制备的薄膜具有高达98%盐截留率，水通量达到2.16×106Lhm2。

本发明授权一种高水通量高分子渗透膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种高水通量高分子渗透膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、将基板旋涂聚甲基丙烯酸甲酯PMMA或PVA或S1813高分子材料，并加热固化形成牺牲层；其中，所述基板为硅片、石英片或氧化铝陶瓷基板；所述旋涂采用三步法：第一步，500rmin预旋涂5-10秒，第二步，升至6000~8000rmin旋涂30-60秒，第三步，降速至500-1000rmin旋涂5-10秒； S2、对所述牺牲层进行等离子体刻蚀处理，使表面形成交联多孔结构，获得PMMA反应物的薄膜；其中，等离子体刻蚀参数包括：刻蚀气体为CF4与CHF3的混合气体，体积比为（3-5）:1，腔体压力20-50mTorr，源功率30-400W，偏置功率10-200W，刻蚀时间5-30秒； S3、在刻蚀后的表面旋涂PVA形成支撑层并固化； S4、通过溶剂溶解所述牺牲层使PVA与PMMA反应物的薄膜悬浮； S5、将悬浮的PVA与PMMA反应物的薄膜转移至多孔支撑衬底； S6、清洗去除残留溶剂及牺牲层材料，去除所述支撑层以获得独立支撑的渗透多孔高分子膜。

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