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龙图腾网获悉上海派拉纶生物技术股份有限公司申请的专利ALD-Parylene复合膜层及其沉积设备、沉积方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120082871B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510578385.8，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权ALD-Parylene复合膜层及其沉积设备、沉积方法是由张岳;徐正伟;张金刚设计研发完成，并于2025-05-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本ALD-Parylene复合膜层及其沉积设备、沉积方法在说明书摘要公布了：本发明属于镀覆技术领域，具体涉及一种ALD‑Parylene复合膜层及其沉积设备、沉积方法，通过将加热盘与腔体外壁之间预留真空间隙，在反应过程中随着腔体内真空度的增加形成了一道隔绝加热盘向腔体外部热传导的屏障，避免了直接接触造成热量损失以及密封件的损坏，有利于提升镀膜效果；通过ALD反应与派拉纶反应结合在同一反应腔体中进行，并且通过不同的管路设计和分时控制，使得在基材表面能够形成交替的ALD膜层和Parylene膜层的复合膜层结构，通过ALD膜层致密性有利于增强膜层的阻水性，对原有派拉纶膜层缺陷进行封堵；且保持原有涂层的柔软性，在受撞击和冷热冲击时不至于破裂，有利于提高膜层的稳定性。

本发明授权ALD-Parylene复合膜层及其沉积设备、沉积方法在权利要求书中公布了：1.一种ALD-Parylene复合膜层沉积设备，其特征在于，包括： 反应腔体，所述反应腔体包括相互配合的顶盖组件和底盖组件，所述顶盖组件包括顶板和上加热盘，所述上加热盘通过第一绝热部件悬挂连接于所述顶板的下表面，所述上加热盘和所述顶板之间留有第一真空间隙；所述底盖组件包括底板和下加热盘，所述下加热盘通过第二绝热部件支撑连接于所述底板的上表面，所述下加热盘和所述底板之间留有第二真空间隙；所述第一真空间隙和所述第二真空间隙为1~2cm；所述顶板与所述底板之间密封配合，所述底板沿周向设置有密封圈槽，所述密封圈槽内设置有密封圈； 第一进气管路，所述第一进气管路与所述反应腔体连接，所述第一进气管路上设置有第一进气阀门，用于控制第一类反应原料进入到所述反应腔体；所述第一类反应原料为三甲基铝； 第二进气管路，所述第二进气管路与所述反应腔体连接，所述第二进气管路上设置有第二进气阀门，用于控制第二类反应原料进入到所述反应腔体；所述第二类反应原料为水； 第三进气管路，所述第三进气管路与所述反应腔体连接，所述第三进气管路上设置有第三进气阀门，用于控制第三类反应原料进入到所述反应腔体；所述第三类反应原料为聚对二甲苯； 排气管路，所述排气管路与所述反应腔体连接，所述排气管路上设置有排气泵； 主扫气管路，所述主扫气管路与所述反应腔体连接，用于在全部反应完成后对所述反应腔体进行快速降温； 控制单元，所述控制单元分别与所述第一进气阀门、第二进气阀门、第三进气阀门以及排气泵连接，所述控制单元用于控制所述排气泵工作以使得所述反应腔体内达到预设的真空度要求、以及控制所述第一进气阀门和所述第二进气阀门交替开启以在基材表面形成原子沉积层，并在形成所述原子沉积之后控制所述第三进气阀门开启，以在所述原子沉积层上形成派拉纶膜层； 所述上加热盘上设置有第一功率加热部件和第二功率加热部件，所述第一功率加热部件的加热功率大于所述第二功率加热部件的加热功率； 所述下加热盘上设置有第三功率加热部件和第四功率加热部件，所述第三功率加热部件的加热功率大于所述第四功率加热部件的加热功率； 所述控制单元与所述第一功率加热部件、第二功率加热部件、第三功率加热部件以及第四功率加热部件连接，用于当需要快速加热时控制所述第一功率加热部件和所述第三功率加热部件开启，以及当需要维持温度时控制所述第二功率加热部件和所述第四功率加热部件开启。

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