武汉宇微光学软件有限公司尉海清获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉宇微光学软件有限公司申请的专利可编程照明光源系统的模拟方法及光源掩模协同优化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118311835B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410459717.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权可编程照明光源系统的模拟方法及光源掩模协同优化方法是由尉海清;刘世元设计研发完成，并于2024-04-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本可编程照明光源系统的模拟方法及光源掩模协同优化方法在说明书摘要公布了：本申请属于计算光刻技术领域，具体公开了一种可编程照明光源系统的模拟方法及光源掩模协同优化方法，该模拟方法包括：基于设计光源形状OSM样本和实际处理结果，对第一仿真模型中SMTM的参数进行标定；实际处理结果是通过将OSM样本输入至光刻物理机并对光刻物理机的处理过程进行监测所获取的，第一仿真模型用于输出与实际处理结果相对应的仿真处理结果，第一仿真模型至少包括SMTM；将标定后的SMTM作为PIS模型。本申请通过利用参照数据对第一仿真模型中的SMTM的参数进行标定，以获取PIS模型，在获取PIS特性的情况下，能够有效地避免PIS硬件失真对光刻物理机上曝光效果的影响，保障IC制造的良率。
本发明授权可编程照明光源系统的模拟方法及光源掩模协同优化方法在权利要求书中公布了：1.一种可编程照明光源系统的模拟方法，其特征在于，包括： 基于设计光源形状OSM样本和实际处理结果，对第一仿真模型中光源形状传递模型SMTM的参数进行标定；所述实际处理结果是通过将OSM样本输入至光刻物理机并对所述光刻物理机的处理过程进行监测所获取的，所述光刻物理机内配置有可编程照明光源系统PIS实体，所述第一仿真模型用于输出与所述实际处理结果相对应的仿真处理结果，所述第一仿真模型至少包括所述SMTM； 将标定后的SMTM作为PIS模型；所述PIS模型用于模拟PIS实体。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉宇微光学软件有限公司，其通讯地址为：430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区创业街海达创新广场写字楼1801；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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