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龙图腾网获悉四川永祥多晶硅有限公司申请的专利一种多晶硅还原过程控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117088376B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311177384.X，技术领域涉及：C01B33/03；该发明授权一种多晶硅还原过程控制方法是由余涛;刘逸枫设计研发完成，并于2023-09-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多晶硅还原过程控制方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种多晶硅还原过程控制方法，涉及多晶硅还原技术领域。首先将回收精馏提纯的二氯硅烷，以及合成精馏得到的三氯硅烷，输送至精制料罐区中混合；然后将混合后的物料输送至氯硅烷汽化器中进行汽化，并将汽化后的物料输送至静态混合器中与氢气混合，再将混合物料输送至还原炉中进行还原反应；最后对还原炉还原反应产生的尾气进行回收，并将包含二氯硅烷的尾气输送至前面的回收精馏中进行回收精馏。其控制二氯硅烷单一控制因素对还原指标的影响，大大降低了其他控制方案对产品质量和系统造成的影响；可以实现相对范围内不同二氯硅烷浓度下的还原控制方案，适应市场产品结构的需要。

本发明授权一种多晶硅还原过程控制方法在权利要求书中公布了：1.一种多晶硅还原过程控制方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、将回收精馏提纯的二氯硅烷，以及合成精馏得到的三氯硅烷，输送至精制料罐区中混合； 所述S1步骤为三氯硅烷精制工艺，所述三氯硅烷精制工艺包括：利用合成精馏工艺得到三氯硅烷产品Ⅰ，利用回收精馏工艺得到三氯硅烷产品Ⅱ，将三氯硅烷产品Ⅰ和三氯硅烷产品Ⅱ充分混合后得到三氯硅烷产品Ⅲ； 所述S1步骤中，二氯硅烷的浓度控制方法为： S11、在三氯硅烷精制工艺运行工况下，计算其回收精馏工艺中除轻塔Ⅲ塔釜的二氯硅烷实际浓度Ⅰ； 所述S11步骤中，先利用二氯硅烷饱和蒸气压和三氯硅烷饱和蒸气压，得到二氯硅烷摩尔分数，再利用二氯硅烷摩尔分数得到二氯硅烷实时质量分数； S12、在现有还原负荷及三氯硅烷产品Ⅰ负荷下，设定三氯硅烷产品Ⅲ需求浓度，并根据需求浓度计算回收精馏工艺中除轻塔Ⅲ塔釜的二氯硅烷控制浓度Ⅱ； S12步骤包括以下步骤： S121、给定三氯硅烷产品Ⅲ中二氯硅烷的需求浓度A； S122、在合成精馏除重塔Ⅱ的三氯硅烷产品Ⅰ出口设置流量计Ⅰ，在回收精馏除重塔Ⅲ和除重塔Ⅳ的三氯硅烷产品Ⅱ出口分别设置流量计Ⅱ和流量计Ⅲ，在回收精馏除重塔Ⅲ和除重塔Ⅳ的进料口分别设置流量计Ⅳ和流量计Ⅴ； S123、利用流量计Ⅰ、流量计Ⅱ、流量计Ⅲ、流量计Ⅳ和流量计Ⅴ采集流量数据，并根据采集的流量数据以及需求浓度A，生成回收精馏工艺中除轻塔Ⅲ塔釜的二氯硅烷控制浓度Ⅱ；在除轻塔Ⅲ内，塔釜采出的三氯硅烷中间品同时进入并联的除重塔Ⅲ和除重塔Ⅳ中进行脱重； S13、计算二氯硅烷实际浓度Ⅰ和二氯硅烷控制浓度Ⅱ的浓度差，并根据浓度差对回收精馏工艺中的除轻塔Ⅲ进行调整，稳定控制三氯硅烷中间品和三氯硅烷产品Ⅲ中的二氯硅烷浓度； 所述S13步骤中，在设定周期内，当浓度差大于设定浓度差值高限时，除轻塔Ⅲ的主回路增加差值高限调整幅度；当浓度差小于设定浓度差值低限时，除轻塔Ⅲ的主回路降低差值低限调整幅度； S2、将混合后的物料输送至氯硅烷汽化器中进行汽化，并将汽化后的物料输送至静态混合器中与氢气混合，再将混合物料输送至还原炉中进行还原反应； S3、对还原炉还原反应产生的尾气进行回收，并将包含二氯硅烷的尾气输送至S1步骤的回收精馏中进行回收精馏，通过控制二氯硅烷控制多晶硅还原。

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