广州安达净水材料有限公司石宗武获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉广州安达净水材料有限公司申请的专利一种去离子清洗剂及其在电子电路产品领域中去除污染物的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116855316B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310734181.X，技术领域涉及：C11D1/66；该发明授权一种去离子清洗剂及其在电子电路产品领域中去除污染物的应用是由石宗武;曾丹丹;周健设计研发完成，并于2023-06-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种去离子清洗剂及其在电子电路产品领域中去除污染物的应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种去离子清洗剂及其在电子电路产品领域中去除污染物的应用，涉及化学防污领域。清洗剂包括以下质量分数的组分：有机碱：1wt％‑10wt％；渗透剂：1wt％‑5wt％；添加剂：1wt％‑8wt％；水：余量；添加剂为3‑甲基丁酸、二丙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯中的至少一种。本申请水基清洗剂采用有机碱搭配润湿性和渗透性强的渗透剂，可以在清洗过程中能有效清除PCB制作过程中残留的腐蚀性“酸性离子”，同时其具有较强的渗透能力，可以渗透进入细至3mil的微孔区域彻底清洗，有效清除指印、油脂、离子等污染物，满足高质量产品的清洗要求。
本发明授权一种去离子清洗剂及其在电子电路产品领域中去除污染物的应用在权利要求书中公布了：1.一种水基去离子清洗剂，其特征在于，包括以下质量分数的组分： 有机碱：1wt%-10wt%； 渗透剂：1wt%-5wt%； 添加剂：1wt%-8wt%； 水：余量； 其中，所述有机碱为质量比为5：4的乙二胺和异丙醇胺；所述添加剂为质量比为1：2的3-甲基丁酸和二丙二醇甲醚醋酸酯，所述渗透剂为烷基糖苷。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人广州安达净水材料有限公司，其通讯地址为：510897 广东省广州市花都区花东镇北兴港头工业区33号201；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由AI智能生成
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号