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龙图腾网获悉上海星原驰半导体有限公司申请的专利化学气相沉积炉及其进气机构和进气方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116083879B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211562222.3，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权化学气相沉积炉及其进气机构和进气方法是由邵大立;齐彪;马敬忠设计研发完成，并于2022-12-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本化学气相沉积炉及其进气机构和进气方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种化学气相沉积炉及其进气机构和进气方法。化学气相沉积炉包括炉体，炉体设有用于容置晶圆的容纳腔，进气机构包括：至少一进气管，设于炉体上且位于容纳腔外；至少一进气板，设于容纳腔内；每一进气板的第一端伸出炉体外，并与进气管相连，每一进气板的第二端朝向容纳腔的底部延伸；每一进气板朝向容纳腔内的晶圆的一侧设有出气口组，出气口组包括分别与进气管和容纳腔相连通的多个出气口，同一进气板上的多个出气口围绕于容纳腔内的晶圆间隔布设。利用该进气机构可使反应气体从多个方向朝向容纳腔内的晶圆的表面扩散，进而能提高晶圆的表面所沉积的薄膜层的厚度的均匀性。

本发明授权化学气相沉积炉及其进气机构和进气方法在权利要求书中公布了：1.一种用于化学气相沉积炉的进气机构，所述化学气相沉积炉包括炉体（110），所述炉体（110）设有用于容置晶圆（20）的容纳腔（111），其特征在于，所述进气机构包括： 至少一进气管（210），设于所述炉体（110）上且位于所述容纳腔（111）外； 至少一进气板（220），设于所述容纳腔（111）内； 其中，每一所述进气板（220）具有沿所述炉体（110）的轴线方向相对设置的第一端（221）和第二端（222）； 每一所述进气板（220）的第一端（221）伸出所述炉体（110）外，并与所述进气管（210）相连，每一所述进气板（220）的第二端（222）朝向所述容纳腔（111）的底部延伸； 每一所述进气板（220）朝向所述容纳腔（111）内的所述晶圆（20）的一侧设有出气口组，所述出气口组包括分别与所述进气管（210）和所述容纳腔（111）相连通的多个出气口（223），同一所述进气板（220）上的多个所述出气口（223）围绕于所述容纳腔（111）内的所述晶圆（20）间隔布设； 每一所述进气板（220）朝向所述容纳腔（111）内的所述晶圆（20）的一侧设有弧形出气面（224），所述弧形出气面（224）沿所述炉体（110）的径向方向向内凹陷； 所述出气口组设于对应的所述弧形出气面（224），同一所述出气口组的多个出气口（223）沿弧形出气面（224）的弧长方向间隔设置； 每一所述进气板（220）背离所述晶圆（20）的一侧与所述容纳腔（111）的侧壁之间具有预设间隔。

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