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龙图腾网获悉钢研纳克成都检测认证有限公司申请的专利一种基于EDXs的多相Ta_xC_1-x全定量分析方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115639234B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211371014.5，技术领域涉及：G01N23/223；该发明授权一种基于EDXs的多相Ta_xC_1-x全定量分析方法是由魏家轩;刘璞;陈峥;陈豪;陈国华设计研发完成，并于2022-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于EDXs的多相Ta_xC_1-x全定量分析方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于EDXs的多相TaxC1‑x全定量分析方法，属于金属化合物全定量分析技术领域，包括：准备TaC化合物样品；采集TaC化合物样品的实际测量光谱；对实际测量光谱进行分析，得到TaLCK和或TaMCK的值的真实样本；改变X射线光谱仪的探针打入TaC化合物样品的位置，使TaC化合物样品的厚度在100nm～1000nm之间变化，重复步骤S02、S03，并制作TaLCK与TaC化合物样品厚度，和或TaMCK与TaC化合物样品厚度的第一关系曲线图；根据第一关系曲线图，确定TaLCK和或TaMCK的值趋向平稳时TaC化合物样品的临界厚度D1；建立模拟光谱库，选择不小于临界厚度D1的一个第一真实样本，将第一真实样本对应的第一实际测量光谱在模拟光谱库内对比，对应的Ta和C含量为TaC化合物样品中的真实Ta和C含量。

本发明授权一种基于EDXs的多相Ta_xC_1-x全定量分析方法在权利要求书中公布了：1.一种基于EDXs的多相TaxC1-x全定量分析方法，其特征在于，包括以下步骤： S01、准备TaC化合物样品，所述TaC化合物样品包括衬底和目标体，所述衬底采用环氧树脂材质，所述目标体包括TaC化合物，所述目标体固定设置在衬底的顶壁上，所述目标体的表面与衬底的表面齐平； S02、通过X射线光谱仪采集TaC化合物样品的实际测量光谱； S03、对实际测量光谱进行分析，得到TaLCK和或TaMCK的值的真实样本； S04、改变X射线光谱仪的探针打入TaC化合物样品的位置，使探针下TaC化合物样品的厚度在100nm～1000nm之间变化，重复步骤S02、S03，并制作TaLCK与TaC化合物样品厚度，和或TaMCK与TaC化合物样品厚度的第一关系曲线图； S05、根据所述第一关系曲线图，确定TaLCK和或TaMCK的值趋向平稳时TaC化合物样品的临界厚度D1； S06、建立由通过计算机模拟得到的TaC化合物中Ta和C不同含量时模拟特征光谱的模拟光谱库，选择探针下TaC化合物样品的厚度不小于所述临界厚度D1的一个第一真实样本，将所述第一真实样本对应的第一实际测量光谱在模拟光谱库内对比得到最匹配的目标特征光谱，确定所述目标特征光谱对应的Ta和C含量为TaC化合物样品中的真实Ta和C含量； S07、根据测得的真实Ta和C含量，使TaC化合物样品中衬底的厚度保持定值D2，探针下目标体的厚度在100nm～1000nm之间变化，重复步骤S02、S03，并制作TaLCK与目标体厚度，和或TaMCK与目标体厚度的第二关系曲线图； S08、通过计算机模拟真实Ta和C含量的模拟TaC化合物在厚度为100nm～1000nm之间变化时，TaLCK与模拟TaC化合物厚度，和或TaMCK与模拟TaC化合物厚度的第三关系曲线图； S09、比较第二关系曲线图与第三关系曲线图，选取两个关系曲线图中曲线会聚时的目标体厚度为D3，当： -10nm≤D1-D2+D3≤10nm 确定所述衬底对Ta和C的定量无影响； S10、根据步骤S06所述的第一真实样本的TaL、TaM和CK的X射线光谱峰值强度，通过Cliff-Lorimer因子计算公式，计算获得Ta和C计算含量，比较真实Ta和C含量与Ta和C计算含量，当确定真实Ta和C含量与Ta和C计算含量之间差异小于8％时，确定测得的真实Ta和C含量准确。

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