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龙图腾网获悉中国科学院半导体研究所申请的专利基于漫反射激光外差相干的原位密度测量装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115326637B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211075809.1，技术领域涉及：G01N9/24；该发明授权基于漫反射激光外差相干的原位密度测量装置及方法是由李丽艳;周燕;范松涛设计研发完成，并于2022-09-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于漫反射激光外差相干的原位密度测量装置及方法在说明书摘要公布了：本公开提供了一种基于漫反射激光外差相干的原位密度测量装置和方法，该装置包括：激光器，用于产生探测激光；外差相干模块，设于激光器之后，用于将探测激光分为测量光和参考光，使测量光穿过透射式漫反射介质密度测量模块探测待测介质，测量光的返回光与参考光发生干涉，产生干涉光信号，解调干涉光信号，输出待测介质的密度；透射式漫反射介质密度测量模块，设于外差相关模块之后，用于将测量光与待测介质耦合，并通过漫反射物体使测量光的返回光原路返回至外差相干模块。该装置和方法通过结合外差与漫反射物体作为探测光反射的方法，解决了现有干涉测量介质密度存在的问题，实现了大动态范围、高精度下的介质密度原位测量。

本发明授权基于漫反射激光外差相干的原位密度测量装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于漫反射激光外差相干的原位密度测量装置，其特征在于，包括： 激光器，用于产生探测激光； 外差相干模块，设于所述激光器之后，用于将所述探测激光分为测量光和参考光，使所述测量光穿过透射式漫反射介质密度测量模块探测待测介质，所述测量光的返回光与所述参考光发生干涉，产生干涉光信号，解调所述干涉光信号，输出所述待测介质的密度； 其中，所述外差相干模块包括： 第一偏振分光棱镜，用于将所述探测激光分为测量光和参考光； 分光棱镜，用于使所述测量光的返回光与所述参考光发生相干； 解调系统，用于解调所述干涉光信号，得到并输出所述待测介质的密度； 外差调制器，设于所述第一偏振分光棱镜和所述分光棱镜之间，用于对所述参考光进行外差调制； 第二偏振分光棱镜，设于所述第一偏振分光棱镜和所述分光棱镜之间，用于将所述测量光的返回光反射至所述分光棱镜； 反射镜，设于所述外差调制器与所述分光棱镜之间，用于将所述参考光反射至所述分光棱镜； 透射式漫反射介质密度测量模块，设于所述外差相干模块之后，用于将所述测量光与所述待测介质耦合，并通过漫反射物体使所述测量光的返回光原路返回至所述外差相干模块； 其中，所述透射式漫反射介质密度测量模块包括： 待测介质测量区，用于设置所述待测介质，其中，所述待测介质包括气态、液态、气液两态介质，具有透射性； 漫反射物体，用于当所述测量光穿过所述待测介质测量区后，将所述测量光均匀反射形成原路返回的返回光。

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