南京工业大学顾学红获国家专利权
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龙图腾网获悉南京工业大学申请的专利一种DDR分子筛膜的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115569534B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211040046.7，技术领域涉及：B01D71/02；该发明授权一种DDR分子筛膜的制备方法是由顾学红;彭莉;杨菊设计研发完成，并于2022-08-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种DDR分子筛膜的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种DDR分子筛膜的制备方法，将经球磨得到的Sigma‑1分子筛晶种配置成晶种悬浮液，将晶种涂覆到支撑体上；将金刚烷胺、乙烯胺、去离子水、硅溶胶混合得到合成液，水热合成制备DDR分子筛膜；臭氧煅烧得到活化的DDR分子筛膜。与现有技术相比，本发明采用高沸点乙烯胺类化合物作为矿化剂，解决了采用乙二胺作为矿化剂合成时带来的有毒气体挥发问题，并且制备的DDR分子筛膜厚度明显降低。
本发明授权一种DDR分子筛膜的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种DDR分子筛膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 第1步，负载晶种的支撑体的制备：球磨Sigma-1分子筛晶种溶于水中配置成晶种悬浮液，涂覆到多孔支撑体上； 第2步，DDR分子筛膜的制备：将金刚烷胺、乙烯胺、去离子水、硅溶胶按一定的摩尔比配制合成液，通过二次水热合成法制备分子筛膜； 第3步：DDR分子膜的活化：采用臭氧气氛对合成的DDR分子筛膜进行处理，得到活化后的DDR分子筛膜。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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