长春长光圆辰微电子技术有限公司刘佳晶获国家专利权
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龙图腾网获悉长春长光圆辰微电子技术有限公司申请的专利一种石英常温键合方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115376966B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210949095.6，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种石英常温键合方法是由刘佳晶;陈涛;王宣欢;孙萱;方小磊设计研发完成，并于2022-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种石英常温键合方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种石英常温键合方法，包括：S100，清洗石英片表面；S200，将两个石英片进行二氧化硅沉积，在石英片表面生成二氧化硅键合膜；S300，对二氧化硅键合膜进行化学机械研磨；S400，使用氢氟酸溶液清洗石英片；S500，使两个石英片的二氧化硅键合膜相互接触并通过键合机键合石英片。本方案能够在常温下高可靠性地实现石英和石英的键合。
本发明授权一种石英常温键合方法在权利要求书中公布了：1.一种石英常温键合方法，其特征在于，包括： S100、使用SC1溶液清洗石英片表面； S200、使用化学气相沉积法，将两个所述石英片进行二氧化硅沉积，在所述石英片表面生成二氧化硅键合膜；所述二氧化硅生成源为正硅酸乙酯；生成的二氧化硅键合膜厚度为1微米-3微米，防止后续工艺中二氧化硅键合膜被完全去掉； S300、对所述二氧化硅键合膜进行化学机械研磨；经过所述S300处理后的所述二氧化硅键合膜，轮廓算术平均偏差Ra小于1纳米，均方根粗糙度Rq小于1.5纳米； S400、使用氢氟酸溶液清洗所述石英片，将氢氟酸溶液清洗后的石英片进行甩干；所述氢氟酸溶液的浓度为2%-5%； S500、使两个所述石英片的所述二氧化硅键合膜相互接触并通过键合机键合所述石英片；包括如下子步骤： S501、两个所述石英片首先依次进入等离子腔体，表面激活等离子体； S502、所述石英片进入清洗腔体内部，进行表面亲水处理； S503、对上方的所述石英片施加压力使两个所述石英片发生键合； 在常温常压下能够实现石英和石英的键合，不会损害石英界面光学性能。
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