东京毅力科创株式会社阪上博充获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片搬运装置、基片处理系统和基片处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114664692B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111524734.6，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基片搬运装置、基片处理系统和基片处理方法是由阪上博充;儿玉俊昭设计研发完成，并于2021-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片搬运装置、基片处理系统和基片处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供基片搬运装置、基片处理系统和基片处理方法，在减压气氛下搬运基片的基片搬运装置中，能够始终监视基片的位置。本发明的基片搬运装置在减压气氛下对基片处理装置搬运基片，包括：基片保持部，其用于保持所述基片；和基片测量部，其被设置于所述基片保持部，对所述基片相对于该基片保持部的位置进行测量。
本发明授权基片搬运装置、基片处理系统和基片处理方法在权利要求书中公布了：1.一种使用基片处理系统对基片进行处理的基片处理方法， 所述基片处理系统包括： 在减压气氛下对所述基片进行处理的基片处理装置；和 在减压气氛下对所述基片处理装置搬运所述基片的基片搬运装置， 在所述基片处理方法中，在利用所述基片搬运装置搬运所述基片时，利用基片保持部保持所述基片，使用设置于所述基片保持部的基片测量部测量所述基片相对于该基片保持部的位置， 在利用所述基片保持部接收所述基片时，在所述基片保持部与所述基片隔开间隔的状态下，一边利用所述基片测量部测量所述基片的位置，一边使所述基片保持部在水平方向和铅垂方向上移动来使该基片保持部与所述基片接触， 基于所述基片保持部的水平方向速度和铅垂方向速度，计算所述基片保持部的初始位置与接触位置之间的铅垂方向距离， 对计算出的所述铅垂方向距离与预先求出的正常时的铅垂方向距离进行比较，检测所述基片保持部的位移。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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