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龙图腾网获悉昆山协鑫光电材料有限公司申请的专利一种刻蚀方法、刻蚀装置及钙钛矿组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120390571B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510873742.3，技术领域涉及：H10K71/60；该发明授权一种刻蚀方法、刻蚀装置及钙钛矿组件是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种刻蚀方法、刻蚀装置及钙钛矿组件在说明书摘要公布了：本发明实施例公开一种刻蚀方法、刻蚀装置及钙钛矿组件。该刻蚀方法用于对待刻蚀电池的顶电极进行刻蚀；该刻蚀方法包括：将高斯光束整形成方形平顶光束；调节方形平顶光束的预设聚焦位置；控制待刻蚀电池与方形平顶光束至相对位置处，并控制待刻蚀电池与方形平顶光束沿第一方向和或第二方向相对运动；根据预设聚焦位置对待刻蚀电池进行刻蚀，使刻蚀形成的刻槽深度大于或等于顶电极的厚度且小于顶电极与钙钛矿功能层的厚度之和。本发明实施例的技术方案，通过将高斯光束转换为方形平顶光束，且产生的方形平顶光束焦深下沿只作用在膜层表面的顶电极，降低实际使用功率且可以避免激光对钙钛矿组件中其他功能层的影响，提高钙钛矿组件的性能。

本发明授权一种刻蚀方法、刻蚀装置及钙钛矿组件在权利要求书中公布了：1.一种刻蚀方法，其特征在于，所述刻蚀方法用于对待刻蚀电池的顶电极进行刻蚀；所述刻蚀方法包括： 将高斯光束整形成方形平顶光束； 调节所述方形平顶光束的预设聚焦位置； 控制待刻蚀电池与所述方形平顶光束至相对位置处，并控制所述待刻蚀电池与所述方形平顶光束沿第一方向和或第二方向相对运动，所述第一方向与所述第二方向不同； 根据所述预设聚焦位置对所述待刻蚀电池进行刻蚀，使刻蚀形成的刻槽深度大于或等于顶电极的厚度且小于所述顶电极与钙钛矿功能层的厚度之和； 所述调节所述方形平顶光束的预设聚焦位置，包括： 通过调节光学模块的焦距，以确定预设焦点位置；其中，所述预设焦点位置为所述方形平顶光束的预设聚焦位置； 所述通过调节光学模块的焦距，以确定预设焦点位置，包括： 根据所述光学模块出口与顶电极表面的距离的最大值和最小值确定所述光学模块出口与所述顶电极表面的距离的调节范围； 将所述调节范围按照相等预设间距进行N次划线； 获取迭代次数和初始激光功率，根据所述迭代次数和所述初始激光功率确定N次划线时的激光功率； 根据所述激光功率确定功率密度，并将所述功率密度与所述顶电极的消融阈值比较； 当所述功率密度与所述消融阈值相等，或者所述功率密度与所述消融阈值的差值小于或等于预设差值时，确定所述光学模块的焦距以及预设焦点位置。

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