陛通半导体设备(苏州)有限公司睢智峰获国家专利权
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龙图腾网获悉陛通半导体设备(苏州)有限公司申请的专利溅射镀膜设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120311156B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510804229.9，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权溅射镀膜设备是由睢智峰;解文骏;周云;潘学勤;宋维聪设计研发完成，并于2025-06-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本溅射镀膜设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种溅射镀膜设备，所述溅射镀膜设备包括溅射腔体、位于溅射腔体上部的溅射组件、位于溅射腔体内的载台及遮挡组件；所述遮挡组件包括挡板及遮挡环，所述挡板自溅射组件外围向下延伸到载台周向外围，所述挡板内设置有冷却通道，且所述挡板和遮挡环上均沿径向间隔设置有2个以上散热鳍片，各散热鳍片的高度大于1.5cm且各散热鳍片的表面均设置有高热辐射性能的散热材料层；非镀膜过程中，遮挡环搭设在挡板上，且挡板和遮挡环的散热鳍片相互嵌设。本发明可以大大提升挡板和遮挡环之间的热交换效率，由此可以在较短的时间内快速降温，有助于减少上一片晶圆与下一片晶圆之间的沉积速率与膜厚均匀性的差值，减少器件性能的差异性。
本发明授权溅射镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种溅射镀膜设备，其特征在于，所述溅射镀膜设备包括溅射腔体、位于溅射腔体上部的溅射组件、位于溅射腔体内的载台及遮挡组件；所述遮挡组件包括挡板及遮挡环，所述挡板自溅射组件外围向下延伸到载台周向外围，所述挡板内设置有冷却通道，且所述挡板和遮挡环上均沿径向间隔设置有2个以上散热鳍片，各散热鳍片的高度大于1.5cm且各散热鳍片的表面均设置有高热辐射性能的散热材料层，挡板和遮挡环均具有导电金属层，两者的散热鳍片的散热材料层为导电类型相反的半导体材料层；非镀膜过程中，遮挡环搭设在挡板上，且挡板和遮挡环的散热鳍片相互嵌设；所述溅射镀膜设备还包括直流电源，直流电源与挡板和遮挡环之间形成电流回路，且直流电源提供不同方向电流以切换冷热端面。
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