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龙图腾网获悉北京北旭电子材料有限公司;北旭(湖北)电子材料有限公司申请的专利一种优化光刻胶稳定性的制备方法、系统及光刻胶获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120068666B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510535522.X，技术领域涉及：G06F30/27；该发明授权一种优化光刻胶稳定性的制备方法、系统及光刻胶是由刘洪雷;胡凡华;朴大然;卢克军设计研发完成，并于2025-04-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种优化光刻胶稳定性的制备方法、系统及光刻胶在说明书摘要公布了：本发明公开了一种优化光刻胶稳定性的制备方法、系统及光刻胶，涉及光刻胶技术领域，所述方法包括：以目标产线的身份特征为约束，采集光刻胶制备日志，日志包含原料配比、反应条件及稳定性指标；基于日志构建稳定性评估模型，模型由对应多个制备环节的级联弱学习器组成；结合评估模型与全局优化算法，迭代搜索制备参数，将模型预测结果作为目标函数输出，制备参数为输入；输出满足稳定性阈值的参数作为标准制备参数，并据此执行光刻胶制备。进而达成提高优化效率、降低优化成本并改善优化精度的技术效果。

本发明授权一种优化光刻胶稳定性的制备方法、系统及光刻胶在权利要求书中公布了：1.一种优化光刻胶稳定性的制备方法，其特征在于，所述方法包括： 以目标产线的产线身份特征为约束，采集光刻胶的制备日志，其中，所述制备日志包括原料配比、反应条件参数及对应的稳定性指标数据； 基于所述制备日志，构建稳定性评估模型，其中，所述稳定性评估模型包括级联的多组弱学习器，且多组弱学习器对应目标产线的多个制备环节，包括： 对采集的所述制备日志数据进行缺失值填补、异常值剔除、数值归一化与类别变量编码处理，得到用于训练的建模数据集； 根据光刻胶制备工艺流程的关键环节信息，将所述建模数据集按工艺阶段进行分段，获取多个子数据集； 获取目标场景的评估算力指标，并结合预构的量级权重系数集分配所述评估算力指标，定义多组弱学习器的组容量约束； 以所述组容量约束为填充上限，向多组弱学习器中添加弱学习器； 依据各子数据集中包含的特征维度与数据样本量，采用自适应采样策略对数据进行增强或裁剪，并采用交叉验证与早停机制对每组弱学习器进行训练，直至在验证集上达到稳定性评估指标收敛要求； 将训练完成的多组弱学习器集成，并根据训练误差分布对弱学习器权重进行动态微调，形成所述稳定性评估模型； 结合所述稳定性评估模型与全局优化算法，对制备参数进行迭代搜索，其中，将所述稳定性评估模型的预测结果作为目标函数的输出，所述目标函数的输入为所述制备参数； 将所述预测结果满足预设稳定性阈值的所述制备参数输出为标准制备参数，并根据所述标准制备参数进行光刻胶制备。

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