华灿光电(苏州)有限公司陈张笑雄获国家专利权
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龙图腾网获悉华灿光电(苏州)有限公司申请的专利石墨基座及金属有机化学气相沉积设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115747957B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211363961.X，技术领域涉及：C30B25/12；该发明授权石墨基座及金属有机化学气相沉积设备是由陈张笑雄;胡烨伟;李翠玲;徐伟;王群设计研发完成，并于2022-11-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本石墨基座及金属有机化学气相沉积设备在说明书摘要公布了：本公开提供了一种石墨基座及金属有机化学气相沉积设备，属于半导体技术领域。石墨基座，包括：基座主体、多个圆形槽和多个流场调控组件。基座主体为圆盘形结构；多个圆形槽均位于基座主体的一侧面，且各圆形槽的中心分布在至少两个圆形轨迹上，圆形轨迹与基座主体同心；多个流场调控组件与圆形槽一一对应，各流场调控组件围设在对应的圆形槽四周，以调控对应的圆形槽处的流场。本公开能够调控前驱气体的流场，从而具有高质量的外延生长，以使得外延层具有良好的一致性。
本发明授权石墨基座及金属有机化学气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种石墨基座，其特征在于，包括： 基座主体10，为圆盘形结构； 多个圆形槽20，均位于所述基座主体10的一侧面，且各所述圆形槽20的中心分布在至少两个圆形轨迹210上，所述圆形轨迹210与所述基座主体10同心； 多个流场调控组件30，与所述圆形槽20一一对应，各所述流场调控组件30围设在对应的所述圆形槽20四周，以调控对应的所述圆形槽20处的流场，所述流场调控组件30包括多个凸起310，各所述凸起310沿对应的所述圆形槽20的外边缘周向间隔排布，所述凸起310与所述圆形槽20的外边缘之间的距离为1mm-10mm，相邻两个所述凸起310之间的距离为1mm-5mm，所述凸起310垂直于所述基座主体10的高度为400um-800um。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华灿光电(苏州)有限公司，其通讯地址为：215600 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路28号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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