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元潼(北京)技术有限公司蔡娅雯获国家专利权

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龙图腾网获悉元潼(北京)技术有限公司申请的专利用于元成像的CIS系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115190257B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210602153.8,技术领域涉及:H04N25/76;该发明授权用于元成像的CIS系统是由蔡娅雯;郭泽群设计研发完成,并于2022-05-30向国家知识产权局提交的专利申请。

用于元成像的CIS系统在说明书摘要公布了:本申请涉及计算成像技术领域,特别涉及一种用于元成像的CIS系统,其中,包括:主成像系统、微透镜阵列、图像采集单元、设置于微透镜阵列前后包括微透镜阵列上的第一掩膜和设置于主成像系统附近包括主成像透镜上、所述微透镜阵列之前的第二掩膜,其中,主成像系统用于得到目标物体的第一图像;第一掩膜用于对第一图像进行幅度调制,微透镜阵列用于利用预设的相位调制函数对第一图像的光路进行相位调制,得到目标物体的第二图像;第一掩膜用于通过预设的第一掩膜调制函数对第二图像进行掩膜调制,引入更均一的频谱混叠,得到目标物体的光场信息,使得图像采集单元根据光场信息生成最终图像。由此,基于两种微透镜阵列增加掩膜的光场采集方式,提升了采样效率和光场成像与重建质量,同时也解决了相机阵列在相机镜头和传感器之间增加掩膜实现光场采集时成本高、体积大等问题。

本发明授权用于元成像的CIS系统在权利要求书中公布了:1.一种用于元成像的CIS系统,其特征在于,包括:主成像系统、微透镜阵列、图像采集单元、设置于所述微透镜阵列前后包括微透镜阵列上的第一掩膜,其中, 所述主成像系统用于得到目标物体的第一图像; 所述微透镜阵列用于利用预设的相位调制函数对所述第一图像的光路进行相位调制,得到所述目标物体的第二图像; 所述第一掩膜用于通过预设的第一掩膜调制函数对所述第二图像进行掩膜调制,引入预设的频谱混叠,得到所述目标物体的光场信息,使得所述图像采集单元根据所述光场信息生成最终图像; 还包括: 设置于所述主成像系统中主成像透镜上、所述微透镜阵列之前的第二掩膜,所述第二掩膜用于利用预设的第二掩膜调制函数对所述第一图像进行掩膜调制,得到用于相位调制的第一图像; 所述第一图像的波函数为: 其中,x,y,z为物点的三维空间距离坐标,z含义为深度,λ为波长,r为孔径平面径向距离,J0·为第一类零阶贝塞尔函数,s为所述主成像系统与所述微透镜阵列之间距离,d为所述目标物体与所述主成像系统距离,Dr,λ,z为建模了距离主成像系统距离z处的成像响应变化情况,表达式如下式: 所述预设的相位调制函数为: 其中,x0,y0为微透镜阵列的中心坐标,f为焦距,n为折射率,rect.为矩形窗函数,i为虚部,exp.为指数函数; 所述预设的第一掩膜调制函数为: 其中,m2x,y为设置于微透镜阵列前后包括微透镜阵列上、图像采集单元之前的掩膜调制函数; 所述光场信息为: U′ωx,ωy=FωU0x,y,z,λm1r·tx,y,x0,y0; 其中,ωx,ωy为对空间x,y的频域采样,Fω.为傅里叶变换操作,m1r为设置于主成像系统附近包括主成像透镜上、所述微透镜阵列之前的第二掩膜调制函数; 将所述光场信息在所述图像采集单元上生成一个最终图像,包括: 基于成像响应,将所述光场信息在所述图像采集单元上生成一个最终图像,其中,所述成像响应为: 其中,ωu为角度u对应的空间频率位置,ωv为角度v对应的空间频率位置,sωu,ωv为相机像素对特定频率分量的采集过程。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人元潼(北京)技术有限公司,其通讯地址为:100089 北京市海淀区同方科技广场;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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