国家纳米科学中心张勇获国家专利权
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龙图腾网获悉国家纳米科学中心申请的专利一种过渡金属化合物荧光增强异质结构、制备方法和用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114744101B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210379660.X，技术领域涉及：H10H20/851；该发明授权一种过渡金属化合物荧光增强异质结构、制备方法和用途是由张勇;李玥碕;陈哲学设计研发完成，并于2022-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种过渡金属化合物荧光增强异质结构、制备方法和用途在说明书摘要公布了：本发明提供了一种过渡金属化合物荧光增强异质结构、制备方法和用途，所述过渡金属化合物荧光增强异质结构包括层叠设置的过渡金属化合物层、多孔氧化铝模板层与金属衬底层；所述过渡金属化合物层在多孔氧化铝模板层的孔洞处存在深度≥3nm的弯曲下陷。本发明通过构建层叠设置的过渡金属化合物层、多孔氧化铝模板层与金属衬底层的荧光增强异质结构，可以有效增强过渡金属化合物的荧光强度，实现其光学性能的调控，制得的荧光增强异质结构可广泛应用于高性能低维材料器件、光电子器件、柔性电子器件等领域。
本发明授权一种过渡金属化合物荧光增强异质结构、制备方法和用途在权利要求书中公布了：1.一种过渡金属化合物荧光增强异质结构，其特征在于，所述过渡金属化合物荧光增强异质结构包括层叠设置的过渡金属化合物层、多孔氧化铝模板层与金属衬底层；所述多孔氧化铝模板层包括呈六角蜂巢状周期性分布的孔洞；所述孔洞的洞口为碗状结构； 所述过渡金属化合物层悬空搭在多孔氧化铝模板层上； 所述多孔氧化铝模板层中，孔洞的周期间隔Dint为80-120nm； 所述多孔氧化铝模板层中，孔洞的孔径Dp为30-90nm； 所述过渡金属化合物层的厚度为0.6-10nm； 所述过渡金属化合物层中的过渡金属化合物包括二硫化钼、二硒化钼、二碲化钼、二硫化钨、二硒化钨、二硫化铼或二硒化铼中的任意一种或至少两种的组合； 所述过渡金属化合物层在多孔氧化铝模板层的孔洞处存在深度≥3nm的弯曲下陷；所述多孔氧化铝模板层的孔洞中分布有金属颗粒；所述金属颗粒单层分布；所述金属颗粒的尺寸为20-80nm。
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