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龙图腾网获悉苏州维业达触控科技有限公司申请的专利一种超薄复合透明导电膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111667940B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910174710.9，技术领域涉及：H01B5/14；该发明授权一种超薄复合透明导电膜及其制备方法是由周小红;基亮亮;姚益明;陈林森设计研发完成，并于2019-03-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种超薄复合透明导电膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种超薄复合透明导电膜，包括透明基底，所述透明基底的一面设置有第一UV胶层、第二UV胶层、第三UV胶层；所述第一UV胶层经图形化压印、固化、填充导电材料而形成第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽的深度小于第一UV胶层的厚度；所述第一UV胶层表面设置有第二UV胶层，所述第二UV胶层作为加强绝缘支撑层；所述第三UV胶层经图形化压印、固化、填充导电材料而形成第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽的深度不大于第三UV胶层的厚度。本发明中的导电膜结构简单，工艺简化，工艺稳定，应用场景广泛。

本发明授权一种超薄复合透明导电膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种超薄复合透明导电膜，包括透明基底，其特征在于： 所述透明基底的一面设置有第一UV胶层、第二UV胶层、第三UV胶层； 所述第一UV胶层为在透明基底表面涂布的第一层UV固化胶，所述第一UV胶层进行图形化压印并固化而形成第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽填充有导电材料，所述第一导电层的网格状凹槽和第一引线区的引线凹槽的深度小于第一UV胶层的厚度； 所述第一UV胶层表面设置有第二UV胶层，所述第二UV胶层作为加强绝缘支撑层； 所述第二UV胶层表面设置有第三UV胶层，所述第三UV胶层表面进行图形化压印并固化，形成第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽填充有导电材料，所述第二导电层的网格状凹槽和第二引线区的引线凹槽的深度不大于第三UV胶层的厚度， 所述第二UV胶层的厚度为1～10微米，所述第二UV胶层的表面的摩擦系数为0.4-1.0，第一UV胶层、第三UV胶层和第二UV胶层采用相同UV固化胶，第一UV胶层、第二UV胶层和第三UV胶层之间进行增粘处理。

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