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湖北工业大学张晓星获国家专利权

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龙图腾网获悉湖北工业大学申请的专利一种双级式介质阻挡放电活化SF6合成CF4的方法和装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119873802B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510048511.9,技术领域涉及:C01B32/10;该发明授权一种双级式介质阻挡放电活化SF6合成CF4的方法和装置是由张晓星;李亚龙;黄哲;杨照迪;万昆;余磊;谭辉宇设计研发完成,并于2025-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。

一种双级式介质阻挡放电活化SF6合成CF4的方法和装置在说明书摘要公布了:本发明公开了一种双级式介质阻挡放电活化SF6合成CF4的方法和装置,本发明提出了一种双级式DBD等离子体活化降解SF6并通入CO2气体合成CF4的方法,第一级DBD等离子反应器将SF6分子进行降解,将SF6分子分解为氟原子和其他低氟硫小分子,这一步骤不仅实现了SF6的有效降解,还为后续的CF4合成提供了必要的氟源。第二级DBD等离子反应器以CO2为碳源,与一级反应产生的低氟硫小分子发生反应生成CF4气体,含CF4气体的混合气体经过一级冷凝处理,将部分含氟酸性废气冷凝成液态,随后将剩余的混合气体进行二级冷凝,将CF4气体冷凝成液态并收集,实现了产物的高效分离和纯化,一些未参与反应的酸性气体经碱液吸收池处理,可减少对环境产生危害。

本发明授权一种双级式介质阻挡放电活化SF6合成CF4的方法和装置在权利要求书中公布了:1.一种双级式介质阻挡放电活化SF6合成CF4的方法,其特征在于包括如下步骤: S1、将背景气体和六氟化硫气体或六氟化硫废气通入一级DBD等离子体反应器中,背景气体被电离产生等离子体,六氟化硫经等离子体活化后被电离成氟原子和低氟硫化物,产生的氟原子和低氟硫化物与氧以及二氧化硅进一步反应,生成含氟小分子; S2、随后步骤S1产生含氟小分子进入到与一级DBD等离子体反应器连接的二级DDB等离子体反应器中,同时向二级DBD等离子体反应器中通入二氧化碳气体,在等离子体作用下低氟硫化物与二氧化碳发生反应,生成四氟化碳气体。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人湖北工业大学,其通讯地址为:430068 湖北省武汉市洪山区南李路28号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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