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龙图腾网获悉武汉华工激光工程有限责任公司申请的专利基于光斑分析的激光指向稳定控制装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110879453B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911315744.1，技术领域涉及：G02B7/198；该发明授权基于光斑分析的激光指向稳定控制装置及方法是由胡松;许维;王雪辉设计研发完成，并于2019-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于光斑分析的激光指向稳定控制装置及方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于光斑分析的激光指向稳定控制装置及方法，该装置包括相互串联的多个模块，每个模块具有一个入光孔和一个出光孔，第一个模块的入光孔用于接收激光器产生的激光，前一个模块的出光孔与后一个模块的入光孔对齐；第一个模块包含一个多维可调节的第一反射镜；第二个及以后的各模块均包含一个第二反射镜和一台相机，其入光孔和出光孔分别位于第二反射镜的入射光和反射光所在光轴上，相机位于部分反射镜的透射光一侧；第二个至倒数第二个模块的第二反射镜为多维可调节的部分反射镜，最后一个模块的第二反射镜为角度固定的分束镜。本发明可以完成光束指向稳定性的监测与控制，结构简化，便于调整光路或排查问题，结构灵活可变。

本发明授权基于光斑分析的激光指向稳定控制装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于光斑分析的激光指向稳定控制装置，其特征在于：包括相互串联的多个模块，每个模块具有一个入光孔和一个出光孔，第一个模块的入光孔用于接收激光器产生的激光，前一个模块的出光孔与后一个模块的入光孔对齐； 第一个模块包含一个多维可调节的第一反射镜，所述第一反射镜的调节中心固定且位于光轴上； 第二个及以后的各模块均包含一个第二反射镜和一台相机，其入光孔和出光孔分别位于所述第二反射镜的入射光和反射光所在光轴上，第二个至倒数第二个模块的所述第二反射镜为多维可调节的部分反射镜，且所述部分反射镜的调节中心固定且位于光轴上，所述相机位于所述部分反射镜的透射光一侧，所述相机前端具有一片聚焦透镜的镜头；最后一个模块的所述第二反射镜为角度固定的分束镜，且所述分束镜与光轴呈45度角； 通过模块中的相机监测光斑位置相对于图像中心的偏移量，根据偏移量调节上一模块中反射镜的偏转角度，使光斑移动到图像中心，确保光束始终平行于光轴；其中，假设激光相对光轴偏移的角度为θ，相机上看到焦点光斑的偏移量为Δ，镜头的焦距为f，激光为平行光束，则根据凸透镜的几何光学原理可知： Δ=f*tanθ； 通过以上关系，根据相机检测的偏移量计算出激光角度的偏移量，然后反向调节反射镜θ2角度； 第二个至倒数第二个模块的部分反射镜的调节中心与对应相机的感光面中心同光轴，且所述相机和镜头垂直于光轴，所述相机的感光面位于所述镜头的焦平面上； 该装置正常工作时，激光器产生激光，从第一个模块的入光孔中心平行于光轴进入，并打在第一个模块的可调的第一反射镜上，然后从第一个模块的出光孔平行于光轴射入第二个模块，并打在第二个模块的可调反射镜上，第二个模块中的相机此时将看到光斑位于图像的正中心，因此不必调节反射镜，激光将直接从反射镜的中心反射到后一个模块中，直至激光穿过所有模块。

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