东京毅力科创株式会社吉村好贵获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利液处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN109390255B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201810908250.3，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权液处理装置是由吉村好贵;高桥彰吾;泷口靖史;山本太郎设计研发完成，并于2018-08-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本液处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种在将处理液供给到基片进行处理的液处理装置中，抑制颗粒向基片的附着的技术。上述液处理装置构成为，在从各喷嘴部5、6、7对保持为水平的晶片W供给处理流体进行处理时，由设置有用于使各喷嘴部5、6、7移动的开口部16a、16b、16c的覆盖部件15覆盖移动基台54、64、74和导轨55、65、75的上方，对覆盖部件15的下方的驱动区域进行排气，其中，移动基台54、64、74用于使各喷嘴部5、6、7在晶片的上方与待机位置之间移动。并且，当使各喷嘴部位于待机位置时，上述开口部16a、16b、16c分别被各个喷嘴部的喷嘴臂52、62、72封闭。
本发明授权液处理装置在权利要求书中公布了：1.一种液处理装置，其从喷嘴对基片供给处理液来进行液处理，所述液处理装置的特征在于，包括： 罩体，其设置成包围用于将基片水平地保持的基片保持部； 喷嘴臂，其在前端部设置有所述喷嘴，并且后端部由支承部支承； 移动机构，其用于经由所述支承部使喷嘴臂在待机位置与从所述喷嘴向基片供给处理流体的处理位置之间移动； 使所述支承部升降的升降机构； 覆盖部件，其包括设置于比配置有所述移动机构和升降机构的驱动区域靠上方侧的位置的顶板部，用于将所述驱动区域与在所述罩体内保持基片的区域划分开； 在所述顶板部的与所述支承部的移动路径对应的部位，以允许该支承部进行移动的方式形成的开口部；和 对所述驱动区域进行排气的排气机构， 所述待机位置位于所述罩体的后方侧， 所述移动机构构成为能够使喷嘴臂在前后方向上移动， 所述开口部构成为能够由位于待机位置的喷嘴臂封闭。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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