EV 集团 E·索尔纳有限责任公司B.塔尔纳获国家专利权
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龙图腾网获悉EV 集团 E·索尔纳有限责任公司申请的专利使用光学系统对光敏层进行曝光的装置和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114167690B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111522644.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权使用光学系统对光敏层进行曝光的装置和方法是由B.塔尔纳;B.波瓦扎伊设计研发完成，并于2016-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用光学系统对光敏层进行曝光的装置和方法在说明书摘要公布了：本发明涉及不同焦点平面。本发明系关于用于曝光一光敏层之一方法，该光敏层具有一光学系统，在各情况中，至少一光线由至少一光源产生且一曝光图案之像素由至少一微镜装置照明，该至少一微镜装置具有在各情况中具有一镜强度分布的多个微镜，其特征在于为得到曝光图案之一图案强度分布而重迭相邻微镜之镜强度分布发生为曝光图案之各经照明像素之镜强度分布之一总和。此外，本发明系关于使用一光学系统来曝光一光敏层之一装置，该光学系统具有：至少一光源，至少一微镜装置，其具有多个微镜，其中光学系统依一方式建构，使得为形成曝光图案之一图案强度分布而重迭相邻微镜之镜强度分布发生为曝光图案之各经照明像素之镜强度分布之一总和。
本发明授权使用光学系统对光敏层进行曝光的装置和方法在权利要求书中公布了：1.一种使用一光学系统8来曝光一光敏层9的方法，至少一光线6,6'由该光学系统8中的至少一光源7产生且一曝光图案24,24',24”,24”'的数个像素23由该光学系统8中的至少一微镜装置1照明，该至少一微镜装置1具有带有一镜强度分布22,22',22”的多个微镜3，其特征在于，藉由与待曝光之层之表面比较倾斜焦点平面，同时曝光不同焦点平面上的不同结构，并且使用使用复数个不同波长之光源及或具有一宽带波长光谱之光源来产生复数个焦点平面。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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