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龙图腾网获悉东南大学苏州医疗器械研究院;郑州康德泰口腔医疗科技有限公司申请的专利一种基于低温磁控溅射对钽涂层物相的调控方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120464968B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510948418.3，技术领域涉及：C23C14/16；该发明授权一种基于低温磁控溅射对钽涂层物相的调控方法及其应用是由陈坚;张习羽;杨振星;王建明;张朋;黄利伟设计研发完成，并于2025-07-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于低温磁控溅射对钽涂层物相的调控方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于低温磁控溅射对钽涂层物相的调控方法及其应用，属于涂层制备领域。上述调控方法包括：（1）预处理：对基体材料进行高能轰击；（2）调控钽涂层物相为β相：在预处理后的基体材料表面沉积单质钽涂层；（3）调控钽涂层物相为α相：在预处理后的基体材料表面先沉积打底层，再沉积单质钽涂层。本发明通过低温磁控溅射技术，实现了在100℃以下对钽涂层β相α相的可控沉积，无打底层得β相，纯钛或钛钽混合打底层得α相，后者通过低能界面调控提升α相结晶度，钛钽混合层可协调热膨胀差异，使涂层保持高结合力，因此，本发明适用于喷砂酸蚀钛合金牙种植体，兼顾低温工艺兼容性与临床性能，解决物相调控及结合强度难题。

本发明授权一种基于低温磁控溅射对钽涂层物相的调控方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种基于低温磁控溅射对用于喷砂酸蚀钛合金牙种植体中的钽涂层物相的调控方法，其特征在于，采用低温磁控溅射技术，包括以下步骤： （1）预处理：对基体材料进行高能轰击； （2）调控钽涂层物相为β相：在预处理后的基体材料表面沉积单质钽涂层； （3）调控钽涂层物相为α相：在预处理后的基体材料表面先沉积打底层，再沉积单质钽涂层； 步骤（1）中，所述高能轰击的工艺参数为：采用氩离子进行高能轰击，流量为30sccm～60sccm，腔体气压为0.1Pa～0.4Pa，衬底负偏压为200V～800V，钽靶电流为0.1A～1A，时间为20～40min；所述基体材料选自316L不锈钢或钛合金；步骤（2）-步骤（3）中，沉积温度低于100℃，靶基距为10cm～15cm，衬底负偏压为30V～90V，涂层的总厚度为100nm～1000nm；所述打底层为单质钛金属层或钛钽混合金属层；所述单质钛金属层的沉积参数为：钛靶电流为6～8A，沉积时间为1min～10min；所述钛钽混合金属层的沉积参数为：钛靶电流为6～8A，钽靶电流由0A梯度增加至1A～4A，沉积时间为1min～10min；所述单质钽涂层的沉积参数为：钽靶电流为1A～4A，沉积时间为30min～80min。

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