杭州纳境科技有限公司邢圆圆获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州纳境科技有限公司申请的专利基于光束整形的超表面实现方法、装置、设备及介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120276151B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510777414.3，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权基于光束整形的超表面实现方法、装置、设备及介质是由邢圆圆;姚建云;李星仪设计研发完成，并于2025-06-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于光束整形的超表面实现方法、装置、设备及介质在说明书摘要公布了：本发明公开了基于光束整形的超表面实现方法、装置、设备及介质。该方法包括：获取入射至超表面器件的阵列光源的光源参数；根据光源参数计算超表面器件的第一相位的初始焦距并对第一相位分布进行优化；根据光源参数和初始焦距计算第一相位作用下的孔间角谱差和单孔所占角谱差；根据孔间角谱差和单孔所占角谱差计算超表面器件的第二相位的角谱分布后再采用加权角谱分量的方式优化超表面器件的第二相位分布。基于此，在优化后第一相位分布和第二相位分布的共同作用下，对阵列光源的入射光进行光束整形，可以形成高截止性的线激光或匀化光斑的投影效果。
本发明授权基于光束整形的超表面实现方法、装置、设备及介质在权利要求书中公布了：1.一种基于光束整形的超表面实现方法，其特征在于，包括： 获取入射至超表面器件的阵列光源的光源参数； 根据所述光源参数计算所述超表面器件的第一相位的初始焦距； 根据设定的目标焦距和调制传递函数对所述第一相位进行优化以确认第一相位分布； 根据所述光源参数和初始焦距计算所述第一相位作用下的孔间角谱差和单孔所占角谱差； 根据所述孔间角谱差和单孔所占角谱差计算所述超表面器件的第二相位的角谱分布； 根据所述第二相位的角谱分布和优化后的所述第一相位分布，对所述阵列光源的入射光进行光束整形以形成线激光投影效果。
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