中国地质大学(武汉)杨华明获国家专利权
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龙图腾网获悉中国地质大学(武汉)申请的专利一种聚集诱导发光纳米颗粒改性蒙脱石复合物及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116603071B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310530473.1，技术领域涉及：A61K47/55；该发明授权一种聚集诱导发光纳米颗粒改性蒙脱石复合物及其制备方法和应用是由杨华明;廖娟设计研发完成，并于2023-05-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种聚集诱导发光纳米颗粒改性蒙脱石复合物及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了聚集诱导发光纳米颗粒改性蒙脱石复合物及其制备方法和应用。本发明以药用级钙基蒙脱石为载体，负载聚集诱导发光纳米颗粒。制备过程：聚集诱导发光纳米颗粒用二甲基亚砜进行溶解，钙基蒙脱石分散在去离子水中，充分超声，得到蒙脱石悬液。蒙脱石悬液中加入去离子水进行稀释，再加入聚集诱导发光纳米颗粒，恒速混匀，离心，沉淀物冷冻干燥，即得到复合物。本发明利用钙基蒙脱石负载极少量的聚集诱导发光纳米颗粒就可以提升蒙脱石复合止血材料的止血效果，并且制备得到的复合物无明显细胞毒性，无溶血现象，生物相容性好，安全性能高，抗菌效果好；而且本发明的制备方法步骤简单，易操作，有利于规模化生产。
本发明授权一种聚集诱导发光纳米颗粒改性蒙脱石复合物及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种聚集诱导发光纳米颗粒改性蒙脱石复合物在制备止血剂上的应用，其特征在于：聚集诱导发光纳米颗粒改性蒙脱石复合物以钙基蒙脱石为载体，负载聚集诱导发光纳米颗粒，所述聚集诱导发光纳米颗粒为TTPy，结构式为： 。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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