富士胶片株式会社;国立大学法人东京大学椙山卓郎获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社;国立大学法人东京大学申请的专利标准试样膜、标准试样膜的制造方法、标准试样、试样组、定量分析方法、转印薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115053130B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180012994.7，技术领域涉及：G01N27/626；该发明授权标准试样膜、标准试样膜的制造方法、标准试样、试样组、定量分析方法、转印薄膜是由椙山卓郎;寺尾祐子;平兮康彦;大塚徹郎;杉岛明典;白石康晴;平田岳史;槙纳好岐设计研发完成，并于2021-01-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本标准试样膜、标准试样膜的制造方法、标准试样、试样组、定量分析方法、转印薄膜在说明书摘要公布了：本发明提供一种标准试样膜、标准试样、标准试样膜的制造方法、试样组、定量分析方法及转印薄膜，所述标准试样膜用于激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法，其含有有机物，且基于测定位置的金属元素的离子的信号强度的偏差小。本发明的标准试样膜用于激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法，所述标准试样膜含有聚合物及金属元素，且标准试样膜的膜厚的最大高低差为0.50μm以下。
本发明授权标准试样膜、标准试样膜的制造方法、标准试样、试样组、定量分析方法、转印薄膜在权利要求书中公布了：1.一种标准试样膜，其用于激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法，其中， 所述标准试样膜含有聚合物及金属元素， 所述标准试样膜的膜厚的最大高低差为0.50μm以下， 所述标准试样膜的膜厚的最大高低差通过以下方法来测定： 使用探针式膜厚测定机，计算出标准试样膜的膜厚，测定距离为3mm，扫描速度为0.02mmsec，将第1次进行测定的3mm的直线作为扫描线1，在与扫描线1垂直相交的方向上隔开0.2mm以上的距离的部位进行第2次测定， 以下，重复相同的测定，合计进行10次测定，进行10次测定即扫描，求出各扫描中的膜厚的最大值及最小值，将通过10次扫描而得到的10个最大值中最大的值A与通过10次扫描而得到的10个最小值中最小的值B的差分值A-值B作为膜厚的最大高低差。
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