高通股份有限公司鲍军静获国家专利权
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龙图腾网获悉高通股份有限公司申请的专利混合低电阻金属线获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114730733B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080076478.6，技术领域涉及：H01L21/768；该发明授权混合低电阻金属线是由鲍军静;J·J·朱;G·纳拉帕蒂设计研发完成，并于2020-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本混合低电阻金属线在说明书摘要公布了：公开了在半导体器件设计和制造中使用的标准单元和用于制造标准单元的方法。所公开的各方面包括具有多条宽金属线的标准单元。宽金属线由铜形成。标准单元也包括多条窄金属线。对于12nm或更小的量级的线宽，该窄金属线由具有比铜更低的电阻的材料形成。
本发明授权混合低电阻金属线在权利要求书中公布了：1.一种标准单元，包括： 多条宽金属线，其中所述宽金属线由铜形成；以及 多条窄金属线，其中对于12nm或更小的量级的线宽，所述窄金属线由具有比铜更低的电阻的材料形成， 其中所述多条宽金属线具有的高度大于所述多条窄金属线的高度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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