西默有限公司R·A·布尔德特获国家专利权
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龙图腾网获悉西默有限公司申请的专利辐射源测试获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114631061B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080076759.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权辐射源测试是由R·A·布尔德特;T·P·达菲设计研发完成，并于2020-10-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本辐射源测试在说明书摘要公布了：一种生成用于辐射源的测试的方法，该辐射源用于光刻设备，该方法包括以下步骤：接收与辐射源的多个发射图案相对应的数据。该方法还包括以下步骤：分析数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，该一个或多个另外的发射图案用于测试辐射源。参数被确定为：使得辐射源当执行使用参数所配置的一个或多个另外的发射图案时的稳定性与辐射源当执行多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于辐射源当执行多个发射图案时的稳定性的预定界限内。另外，参数被确定为：使得一个或多个另外的发射图案当由辐射源执行时的总持续时间将小于多个发射图案当由辐射源执行时的持续时间。
本发明授权辐射源测试在权利要求书中公布了：1.一种生成用于辐射源的测试的方法，所述辐射源用于光刻设备，所述方法包括以下步骤： 接收与所述辐射源的多个发射图案相对应的数据；以及 分析所述数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，所述一个或多个另外的发射图案用于测试所述辐射源； 其中所述参数被确定为：使得所述辐射源当执行使用所述参数所配置的所述一个或多个另外的发射图案时的稳定性与所述辐射源当执行所述多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于所述辐射源当执行所述多个发射图案时的稳定性的预定界限内， 并且所述一个或多个另外的发射图案当由所述辐射源执行时的总持续时间将小于所述多个发射图案当由所述辐射源执行时的持续时间。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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