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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板及其制备方法和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112133727B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010897899.7，技术领域涉及：H10K59/12；该发明授权显示基板及其制备方法和显示装置是由杨小燕;杨玉清;李锡平;于汇洋;谭凤霞;卓永;李慧;张伟;郭钟旭;孙世成;吴欣慰;李存智;赵东升设计研发完成，并于2020-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板及其制备方法和显示装置在说明书摘要公布了：本公开提供了一种显示基板，包括：衬底基板，具有开孔区、围绕所述开孔区的过渡区以及围绕所述开孔区的像素区；至少一个阻墨坝，位于所述过渡区内且围绕所述开孔区；至少一个导电膜层，位于所述过渡区内，所述导电膜层在所述衬底基板上的正投影与所述阻墨坝在所述衬底基板上的正投影存在交叠。在本公开技术方案中，导电膜层用于吸收热量并进行导热，以减少所述阻墨坝上的热量；在激光剥离工艺过程中，由于导电膜层的存在，其能够吸收周围热量，使得阻墨坝所吸收到的热量减少，阻墨坝上的热量减少，阻墨坝的溢气量减小甚至无溢气，可有效避免阻墨坝处出现膜层分离、脱落的现象，提升了产品良率。

本发明授权显示基板及其制备方法和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其特征在于，包括： 衬底基板，具有开孔区、围绕所述开孔区的过渡区以及围绕所述开孔区的像素区； 至少一个阻墨坝，位于所述过渡区内且围绕所述开孔区；所述阻墨坝包括第一堆积膜层，和或，第二堆积膜层； 至少一个导电膜层，位于所述过渡区内；所述导电膜层包括多层第一导电膜层；相邻所述第一导电膜层之间设置有绝缘层； 所述第一导电膜层在所述衬底基板上的正投影与所述阻墨坝在所述衬底基板上的正投影，两者完全重叠； 所述至少一个导电膜层还包括第二导电膜层；当所述阻墨坝包括所述第一堆积膜层时，所述第二导电膜层位于所述第一堆积膜层背向所述衬底基板的一侧，且与所述第一堆积膜层背向所述衬底基板的一侧表面相接触；当所述阻墨坝包括所述第二堆积膜层时，所述第二导电膜层位于所述第二堆积膜层面向所述衬底基板的一侧，且与所述第二堆积膜层面向所述衬底基板的一侧表面相接触；当所述阻墨坝包括所述第一堆积膜层和所述第二堆积膜层时，所述第二导电膜层位于所述第一堆积膜层和所述第二堆积膜层之间。

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