京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司余兆伟获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板、显示装置及高精度金属掩膜版获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113013222B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110425753.7，技术领域涉及：H10K59/35；该发明授权显示基板、显示装置及高精度金属掩膜版是由余兆伟;晏荣建;许晶行;李中天;高营昌设计研发完成，并于2021-04-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板、显示装置及高精度金属掩膜版在说明书摘要公布了：本公开提供的显示基板、显示装置及高精度金属掩膜版，包括衬底基板；多个相互独立的第一电极，位于衬底基板之上；像素定义层，位于多个第一电极所在层背离衬底基板的一侧，像素定义层包括多个像素开口，像素开口与第一电极具有重叠部分和未重叠部分，所述未重叠部分包围所述重叠部分，像素定义层覆盖未重叠部分、以及第一电极之间的间隙；发光材料层，位于像素定义层背离衬底基板的一侧，发光材料层包括多个发光部，发光部自像素开口延伸至像素定义层上；支撑层，位于像素定义层之上、且与发光部直接接触，支撑层在衬底基板上的正投影与多个第一电极之间的间隙在衬底基板上的正投影相互重叠。
本发明授权显示基板、显示装置及高精度金属掩膜版在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其中，包括： 衬底基板； 多个相互独立的第一电极，位于所述衬底基板之上； 像素定义层，位于所述多个第一电极所在层背离所述衬底基板的一侧，所述像素定义层包括多个像素开口，所述像素开口与所述第一电极具有重叠部分和未重叠部分，所述未重叠部分包围所述重叠部分，所述像素定义层覆盖所述未重叠部分、以及所述第一电极之间的间隙； 发光材料层，位于所述像素定义层背离所述衬底基板的一侧，所述发光材料层包括多个发光部，所述发光部自所述像素开口延伸至所述像素定义层上； 支撑层，位于所述像素定义层之上、且与所述发光部直接接触，所述支撑层在所述衬底基板上的正投影与所述多个第一电极之间的间隙在所述衬底基板上的正投影相互重叠； 所述支撑层的侧面与所述发光部的侧面相接触，且所述支撑层背离所述衬底基板一侧的表面边缘与所述发光部面向所述衬底基板一侧的表面边缘相接触，所述支撑层背离所述衬底基板一侧表面上的相邻所述发光部之间设有间隙。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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