东京毅力科创株式会社永井健治获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利光干涉系统和基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113390352B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110244840.2，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权光干涉系统和基板处理装置是由永井健治;长崎秀昭;铃木聪史设计研发完成，并于2021-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本光干涉系统和基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种光干涉系统和基板处理装置。提供通过简易的结构来测量测定对象物的物理性质的技术。在一个例示性的实施方式中，提供一种光干涉系统。光干涉系统具备：光源，其构成为产生测定光；光纤，其构成为传输测定光；以及测量部。光纤具有单模光纤、多模光纤、以及将单模光纤和多模光纤连接的连接部。光纤的顶端由多模光纤构成。光纤的顶端的端面构成为向测定对象物射出测定光并且被射入来自测定对象物的反射光。测量部构成为基于反射光来测量测定对象物的物理性质。
本发明授权光干涉系统和基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种光干涉系统，其特征在于，具备： 光源，其构成为产生测定光； 光纤，其构成为传输所述测定光，所述光纤具有单模光纤、多模光纤以及将所述单模光纤和所述多模光纤连接的连接部，所述光纤的顶端由所述多模光纤构成，所述光纤的顶端的端面构成为向测定对象物射出所述测定光并且被射入来自所述测定对象物的反射光；以及 测量部，其构成为基于所述反射光来测量所述测定对象物的物理性质。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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