爱思强有限公司H.蒋获国家专利权
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龙图腾网获悉爱思强有限公司申请的专利用于CVD反应器的进气机构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115176046B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180014322.X，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权用于CVD反应器的进气机构是由H.蒋设计研发完成，并于2021-02-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于CVD反应器的进气机构在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于CVD反应器的封闭元件。在其朝向通过封闭板封闭的壳体1的内部的一侧上，封闭元件2承载有环形接片25，该环形接片包围空腔，在该空腔中布置有进气机构3。环形接片25的端面相对于进气机构的排气面29齐平地延伸。板件32嵌在布置在第一空腔19中的盘形主体26的第二空腔中，第一空腔布置在封闭元件2的朝向壳体1内部的一侧上。
本发明授权用于CVD反应器的进气机构在权利要求书中公布了：1.一种CVD反应器，具有壳体1，该壳体具有向上指向的开口，该开口通过封闭元件2封闭，其中，所述封闭元件2具有带有第一空腔的盖板，在该第一空腔中布置有气体分配容积27，其中，所述气体分配容积27的第一内表面由材料一致地由所述盖板形成的第一空腔中的凹部30的表面形成，并且气体分配容积27的第二内表面由布置在第一空腔中的板件形成，其中，所述封闭元件2具有支承面33，该支承面支承在壳体1的壳体壁13的端面13'上，其中，所述板件位于盘形的主体26的第二空腔中，该盘形主体布置在所述第一空腔中，所述第一空腔布置在封闭元件2的朝向壳体1内部的一侧上，其中，所述板件的边缘区域支撑在所述主体26的外边缘区段26'的阶部44上并且气密地贴靠在第一空腔的包围所述凹部30的底部上，其中，排气板21与外边缘区段26'连接，该排气板形成朝向所述壳体内部的排气面29，其中，在板件和排气板21之间的中间空间形成冷却室22，并且其中，布置在排气面29上的多个排气开口17通过与冷却室22交叉的通气小管28与气体分配容积27流动连接。
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