国际商业机器公司N·A·兰兹罗获国家专利权
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龙图腾网获悉国际商业机器公司申请的专利紧密后端工艺间距的梯形互连件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114127912B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080050904.9，技术领域涉及：H01L21/768；该发明授权紧密后端工艺间距的梯形互连件是由N·A·兰兹罗;H·肖布哈;黄淮;王俊利;本山幸一;C·佩妮;L·克莱文格设计研发完成，并于2020-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本紧密后端工艺间距的梯形互连件在说明书摘要公布了：提供了用于形成梯形互连的技术。在一个方面，一种用于形成互连结构的方法包括：在电介质中图案化具有V形轮廓的沟槽，V形轮廓具有圆形底部；使用PVD将衬垫沉积到沟槽中，PVD打开沟槽以在沟槽中产生梯形轮廓；相对于所述电介质选择性地从所述沟槽去除所述衬垫，由此在去除之后，具有所述梯形轮廓的所述沟槽保留在所述电介质中；将共形阻挡层沉积到具有所述梯形轮廓的所述沟槽中并对所述沟槽加衬；在所述共形阻挡层上沉积导体并填充具有所述梯形轮廓的所述沟槽；以及将所述导体和所述共形阻挡层向下抛光至所述电介质。还提供了一种互连结构。
本发明授权紧密后端工艺间距的梯形互连件在权利要求书中公布了：1.一种用于形成互连结构的方法，所述方法包括以下步骤： 在电介质中图案化至少一个沟槽，其中，所述至少一个沟槽被图案化为具有圆形底部的V形轮廓； 使用物理气相沉积PVD将衬垫沉积到所述至少一个沟槽中并对所述至少一个沟槽加衬，所述物理气相沉积打开所述至少一个沟槽，从而在所述至少一个沟槽中产生梯形轮廓； 相对于所述电介质选择性地从所述至少一个沟槽去除所述衬垫，由此在去除之后，具有所述梯形轮廓的所述至少一个沟槽保留在所述电介质中； 将共形阻挡层沉积到具有所述梯形轮廓的所述至少一个沟槽中并对所述至少一个沟槽加衬； 在所述共形阻挡层之上沉积导体至并填充具有所述梯形轮廓的所述至少一个沟槽；以及 将所述导体和所述共形阻挡层向下抛光至所述电介质。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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