东京毅力科创株式会社竹泽由裕获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利清洁方法和基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114245934B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080056685.5，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权清洁方法和基板处理装置是由竹泽由裕;铃木大介;林宽之;宫原达也;藤田圭介;及川大海;藤田成树设计研发完成，并于2020-08-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洁方法和基板处理装置在说明书摘要公布了：本公开的一方式的清洁方法具备如下工序：借助排气管向能进行排气的处理容器的内部供给不含氟的含卤素气体，进行清洁的工序；和，在供给前述含卤素气体进行清洁的工序后，向前述处理容器的内部和前述排气管的内部的至少任一者供给含氟气体，进行清洁的工序。
本发明授权清洁方法和基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种清洁方法，其具备如下工序： 第一清洁工序，向能借助排气管进行排气的处理容器的内部供给不含氟的含卤素气体，来去除作为沉积物的膜；和， 第二清洁工序，在所述第一清洁工序后，向所述处理容器的内部和所述排气管的内部的至少任一者供给含氟气体，来至少去除沉积在所述排气管的内部的生成物， 其中，所述膜是硅膜、锗膜或者硅锗膜， 所述生成物是在所述第一清洁工序中由于所述含卤素气体与所述膜中包含的硅、锗或硅锗的反应而生成的，该生成物包含所述硅、锗或硅锗和所述含卤素气体中的卤素。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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