皇家飞利浦有限公司R·K·O·贝林获国家专利权
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龙图腾网获悉皇家飞利浦有限公司申请的专利平衡针对双能量X射线成像系统的X射线输出获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114402411B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080052855.2，技术领域涉及：H01J35/14；该发明授权平衡针对双能量X射线成像系统的X射线输出是由R·K·O·贝林;S·霍尔茨阿普费尔设计研发完成，并于2020-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本平衡针对双能量X射线成像系统的X射线输出在说明书摘要公布了：提出了一种用于生成第一能谱和第二能谱的X射线辐射的X射线源100，其中，与常规的X射线源相比，所述第一能谱与所述第二能谱之间的X射线强度不平衡被减小。与当施加较低的管电压时相比，通过在施加较高的管电压时配置较小的撞击到阳极102上的电子撞击角度141来实现对所述X射线强度不平衡的所述减小。
本发明授权平衡针对双能量X射线成像系统的X射线输出在权利要求书中公布了：1.一种用于生成第一能谱和第二能谱的X射线辐射的X射线源，所述X射线源包括： 阴极101，其用于发射电子束； 阳极102，其用于将所述电子束至少部分地转换成X射线辐射； 电子光学器件，其被配置为控制所述电子束的电子冲击到所述阳极上的撞击角度131、141； 电源，其被配置为在所述阴极与所述阳极之间施加第一管电压和第二管电压，所述第二管电压高于所述第一管电压；以及 控制电路104，其被操作性地耦合到所述电子光学器件； 其中，所述控制电路被配置为控制所述电子光学器件，使得：当施加所述第一管电压时，所述电子束的所述电子以第一平均撞击角度131冲击到所述阳极上以用于生成所述第一能谱的X射线辐射151；并且当施加所述第二管电压时，所述电子束的所述电子以第二平均撞击角度141冲击到所述阳极上以用于生成所述第二能谱的X射线辐射152；并且 其中，所述第二平均撞击角度小于所述第一平均撞击角度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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