深圳市捷创新材料股份有限公司;深圳市捷安纳米复合材料有限公司李超获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市捷创新材料股份有限公司;深圳市捷安纳米复合材料有限公司申请的专利一种激光脱水及原位疏水改性的纳米二氧化硅制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120504325B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510998442.8，技术领域涉及：C01B33/18；该发明授权一种激光脱水及原位疏水改性的纳米二氧化硅制备方法是由李超;王成群;张薇;杨柳设计研发完成，并于2025-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种激光脱水及原位疏水改性的纳米二氧化硅制备方法在说明书摘要公布了：本申请涉及医用纳米二氧化硅技术领域，具体公开了一种激光脱水及原位疏水改性的纳米二氧化硅制备方法，包括以下步骤：（1）将硅酸钠与硫酸混合反应，离心清洗后干燥得到硅酸粉末；（2）将步骤（1）得到的硅酸粉末经激光辐照，得到含纳米二氧化硅的水蒸汽；（3）对步骤（2）得到的含纳米二氧化硅的水蒸汽负压真空脱水后，喷涂改性混合液，经紫外光固化后，制得成品；所述改性混合液由包含以下重量份的原料组成：PDMS5‑10份；光敏剂0.1‑0.5份；铂催化剂0.1‑0.5份；溶剂89‑94.8份。本申请能够制备高分散性、粒径均一的疏水改性的纳米二氧化硅，且成本低，能耗低，整体在实际应用过程中具有较强的适用性。
本发明授权一种激光脱水及原位疏水改性的纳米二氧化硅制备方法在权利要求书中公布了：1.一种激光脱水及原位疏水改性的纳米二氧化硅制备方法，其特征在于，包括以下步骤： （1）将硅酸钠与硫酸混合反应，离心清洗后干燥得到硅酸粉末； （2）将步骤（1）得到的硅酸粉末经激光辐照，得到含纳米二氧化硅的水蒸汽； （3）对步骤（2）得到的含纳米二氧化硅的水蒸汽负压真空脱水后，喷涂改性混合液，经紫外光固化后，制得成品； 所述改性混合液由包含以下重量份的原料组成： PDMS5-10份； 光敏剂0.1-0.5份； 铂催化剂0.1-0.5份； 溶剂89-94.8份。
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