上海大学刘海获国家专利权
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龙图腾网获悉上海大学申请的专利掩膜板结构、光学结构的形成方法、衍射光波导获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119433436B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510038250.2，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩膜板结构、光学结构的形成方法、衍射光波导是由刘海设计研发完成，并于2025-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜板结构、光学结构的形成方法、衍射光波导在说明书摘要公布了：一种掩膜板结构、光学结构及其形成方法，方法包括：提供基板，所述基板包括一个或多个光学结构区域；提供掩膜板结构，所述掩膜板结构包括：沿垂直于基板表面方向设置的第一掩膜板和第二掩膜板；提供靶材，设置于所述基板上方；将所述掩膜板结构设置于所述靶材与所述基板之间，所述第二掩膜板与所述基板接触，所述第二通孔与所述光学结构区域相对应，所述第一通孔与所述靶材相对应；通过轰击靶材在所述光学结构区域上形成厚度连续渐变的材料层，以实现光学结构的厚度连续变化得到精确控制。
本发明授权掩膜板结构、光学结构的形成方法、衍射光波导在权利要求书中公布了：1.一种掩膜板结构，用于制备衍射光波导中光栅结构，其特征在于，包括： 第一掩膜板，所述第一掩膜板内具有贯穿所述第一掩膜板的第一通孔； 第二掩膜板，所述第二掩膜板内具有贯穿所述第二掩膜板的第二通孔； 所述第二掩膜板与基板贴合； 所述第一掩膜板和所述第二掩膜板之间平行设置且具有间距，所述第一掩膜板和所述第二掩膜板用于在所述第二通孔区域内形成厚度连续渐变的材料层；通过调整所述间距的大小和所述第一通孔的面积大小，调整所述材料层在不同位置的厚度； 所述材料层包括有效区和无效区，在所述有效区内形成所述衍射光波导中的所述光栅结构，所述光栅结构在不同位置的衍射效率被调制，使得所述光栅结构在不同位置具有连续渐变的衍射效率；所述无效区为需要去除的区域。
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