河北工业大学创新研究院(石家庄);河北工业大学潘国峰获国家专利权
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龙图腾网获悉河北工业大学创新研究院(石家庄);河北工业大学申请的专利一种用于TSV钛阻挡层的碱性抛光液及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119639353B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411919268.5，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种用于TSV钛阻挡层的碱性抛光液及其制备方法是由潘国峰;翟乐;杨学莉;王辰伟;周建伟;曹子宜设计研发完成，并于2024-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于TSV钛阻挡层的碱性抛光液及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明为一种用于TSV钛阻挡层的碱性抛光液及其制备方法。该抛光液组成包括如下，硅溶胶：2‑20wt％、络合剂：0.2‑2wt％、氧化剂：0.2‑1.2wt％、抑制剂：0.01‑0.1wt％、表面活性剂：0.01‑0.1wt％、去离子水：余量；碱性抛光液的pH值范围为8.0‑10.0；络合剂采用了有机膦酸类，抑制剂为肟酸类。本发明的抛光液在铜、钛、TEOS抛光速率、选择性和表面质量上均表现出显著的优势。此外，本发明的制备方法简单，适合规模化工业生产的需要，具有重要的实际应用价值。
本发明授权一种用于TSV钛阻挡层的碱性抛光液及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种用于TSV结构钛阻挡层的碱性抛光液，其特征为该抛光液组成包括如下： 硅溶胶：2-20wt% 络合剂：0.2-2wt% 氧化剂：0.2-1.2wt% 抑制剂：0.01-0.1wt% 表面活性剂：0.01-0.1wt％ 去离子水：余量 所述碱性抛光液的pH值范围为8.0-10.0； 所述络合剂为羟基亚乙基二膦酸、氨基三亚甲基膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、2-膦酸基丁烷-1，2，4-三膦酸和多氨基多醚基亚甲基膦酸的一种或多种； 所述抑制剂为安息香肟、水杨醛肟、丙酮肟、2-丁酮肟和环己酮肟中的一种或多种； 所述氧化剂为过氧化氢H2O2； 所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮、脂肪醇聚氧乙烯醚及十二烷基苯磺酸的一种或多种； 所述硅溶胶的平均粒径为60-70nm，硅溶胶主要成分为纳米二氧化硅，浓度为40wt%，主分散度在±5％之间。
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