武汉理工大学桂鑫获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种光纤光栅湿度传感器及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119124232B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410637985.2，技术领域涉及：G01D5/353；该发明授权一种光纤光栅湿度传感器及其制备方法是由桂鑫;李政颖;江河设计研发完成，并于2024-05-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光纤光栅湿度传感器及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光纤光栅湿度传感器及其制备方法，包括以下步骤：配制含乙酸钾和聚丙烯酸的湿敏涂覆层改性溶液；将聚酰亚胺涂覆的光纤布拉格光栅浸入到湿敏涂覆层改性溶液中进行表面改性处理；将经过表面改性处理的光纤布拉格光栅进行退火处理，得到固化完毕的聚酰亚胺涂覆光栅；将固化完毕的聚酰亚胺涂覆光栅进行应力释放处理，得到光纤光栅湿度传感器。本发明的一种光纤光栅湿度传感器的制备方法可提高光纤光栅湿度传感器的聚酰亚胺涂覆层与光纤附着的稳定性、减小湿滞并提高传感器的使用寿命。
本发明授权一种光纤光栅湿度传感器及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光纤光栅湿度传感器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 配制含乙酸钾和聚丙烯酸的湿敏涂覆层改性溶液； 将聚酰亚胺涂覆的光纤布拉格光栅浸入到所述湿敏涂覆层改性溶液中进行表面改性处理； 将经过所述表面改性处理的光纤布拉格光栅进行退火处理，得到固化完毕的聚酰亚胺涂覆光栅； 将所述固化完毕的聚酰亚胺涂覆光栅进行应力释放处理，得到光纤光栅湿度传感器； 所述湿敏涂覆层改性溶液中，所述聚丙烯酸的浓度为12wt％～20wt％； 所述乙酸钾的浓度为1wt％～2wt％。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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