京东方科技集团股份有限公司毕娜获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利掩膜板及掩膜板的制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117305767B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311268655.2，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩膜板及掩膜板的制作方法是由毕娜;王威;刘华猛设计研发完成，并于2023-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜板及掩膜板的制作方法在说明书摘要公布了：本申请提供了一种掩膜板及掩膜板的制作方法。该掩膜板包括基板以及设置于基板的第一蒸镀部与第二蒸镀部，所述第一蒸镀部与所述第二蒸镀部沿第一方向间隔设置。所述第一蒸镀部内设置有多个第一镂空孔，所述第二蒸镀部内设置有多个第二镂空孔。所述第一镂空孔的形状与所述第二镂空孔的形状不同，和或，所述第一镂空孔与所述第二镂空孔的分布密度不同。μ1E1与μ2E2处于同一量级，其中，μ1为所述第一蒸镀部的泊松比，μ2为所述第二蒸镀部的泊松比，E1为所述第一蒸镀部沿所述第一方向的弹性模量，E2为所述第二蒸镀部沿所述第一方向的弹性模量。本申请能够提高蒸镀效率与蒸镀效果。
本发明授权掩膜板及掩膜板的制作方法在权利要求书中公布了：1.一种掩膜板，其特征在于，包括：基板以及设置于所述基板的第一蒸镀部与第二蒸镀部，所述第一蒸镀部与所述第二蒸镀部沿第一方向间隔设置； 所述第一蒸镀部内设置有多个第一镂空孔，所述第二蒸镀部内设置有多个第二镂空孔；所述第一镂空孔的形状与所述第二镂空孔的形状不同，和或，所述第一镂空孔与所述第二镂空孔的分布密度不同； μ1E1与μ2E2处于同一量级，其中，μ1为所述第一蒸镀部的泊松比，μ2为所述第二蒸镀部的泊松比，E1为所述第一蒸镀部沿所述第一方向的弹性模量，E2为所述第二蒸镀部沿所述第一方向的弹性模量； 所述第二蒸镀部在所述第二镂空孔的四周设置有非镂空部，在所述非镂空部上设置有第一盲孔，所述第一盲孔设置在所述第二蒸镀部内并位于所述第二镂空孔之间。
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